[发明专利]一种微奈米粉体净水系统无效
申请号: | 201210121982.0 | 申请日: | 2012-04-18 |
公开(公告)号: | CN103373749A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 尹建锋 | 申请(专利权)人: | 东莞市金祥源环境治理工程技术有限公司 |
主分类号: | C02F1/28 | 分类号: | C02F1/28;B01J20/14;C02F103/20;C02F103/32;C02F103/30;C02F103/28 |
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地址: | 523000 广东省东莞市东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 米粉 净水 系统 | ||
技术领域
本发明涉及一种净水系统,尤其是涉及一种微奈米粉体净水系统。
背景技术
五十年来工业发展,社会经济成长,相对产生大量工业废水及城市污水,破坏地球环境,影响人类生存空间。政府及产业界必须投入庞大的费用用来净化水质,以符合排放标准。
近年来水质越感短缺,水质源开发不易,则废污水净化再利用已益趋迫切。
传统废污水处理分为初级、二、三级处理,其方法不外混凝沉淀浮除,生物反应、过滤、活性碳吸附、离子交换、消毒及薄膜法等等,程序繁杂处理厂占地广,设备投资费用庞大,故本发明以微奈米粉体的强大吸附力,在一个净水槽内完成净水处理。
发明内容
本发明的目的在于提供一种具可达到排放标准可排放,再利用等优点的微奈米粉体净水系统。
为实现本发明的上述目的,本发明提供了一种微奈米粉体净水系统,其中,所述包括:微奈米粉体处理槽及吸附材料,所述处理槽分为内槽和外槽,所述外槽为圆漏斗形,所述内槽为圆桶形,上下两端空桶,所述内槽下端装有叶片搅拌器,该搅拌器与马达连接;所述吸附材料为微奈米矽藻土,其主要化学成份为二氧化硅含量80%以上,平均粒径约3.5μm,比表面积约45m2/g,有很大的孔隙及吸附能力,所述吸附材料置于内槽内;废污水从内槽上端与粉体同时投入,经下端搅拌机搅拌,使粉体颗粒与污水充分接触,吸 附有机物,然后经下端流入外槽,粉体及水体在外槽四周向上方扩散,所述外槽由下而上其横截面面积逐渐增大,据水理原理,越上端流速越慢,粉体流升至上浮力与下降力平衡时就会停止上升,而形成粉体积过滤层,清水向上渗出由两边溢流回收。
本发明的优点和有益效果在于:简单有效的废污水处理方法,适用于都市污水、畜牧污水、制酒污水、印染污水、造纸污水及其他工业废水处理,具可达到污水排放标准可排放,再利用等优点。
附图说明
图1是本发明的微奈米粉体净水系统的俯视结构示意图;
图2是本发明的微奈米粉体净水系统的侧面的截面结构示意图。
本发明图的主要元件符号说明:
1、内槽
2、马达
3、叶片搅拌机
4、外槽
5、溢流水槽
6、清水排放口
7、清水排放管
8、清水排放控制阀
9、废粉体回收出口
10、废粉体回收阀
11、排泥口
12、排泥阀
具体实施方式
为了进一步说明本发明的原理和结构,现结合附图对本发明的优选实施例进行详细说明,然而所述实施例仅为提供说明与解释之用,不能用来限制本发明的专利保护范围。
如图1及图2所示的为本发明的一种微奈米粉体净水系统,其中,所述包括:微奈米粉体处理槽及吸附材料,所述处理槽分为内槽1和外槽4,所述外槽4为圆漏斗形,所述内槽1为圆桶形,上下两端空桶,所述内槽1下端装有叶片搅拌器3,该搅拌器3与马达2连接;所述吸附材料为微奈米矽藻土,其主要化学成份为二氧化硅含量80%以上,平均粒径约3.5μm,比表面积约45m2/g,有很大的孔隙及吸附能力,所述吸附材料置于内槽1内;废污水从内槽1上端与粉体同时投入,经下端搅拌机3搅拌,使粉体颗粒与污水充分接触,吸附有机物,然后经下端流入外槽4,粉体及水体在外槽4四周向上方扩散,所述外槽4由下而上其横截面面积逐渐增大,据水理原理,越上端流速越慢,粉体流升至上浮力与下降力平衡时就会停止上升,而形成粉体积过滤层,清水向上渗出由两边溢流回收。
废污水与粉体经过混合、搅拌,使粉体颗粒充分接触吸附有机固体物,然后水体向上通过粉体聚积层形成过滤作用,外槽上端表面水即为处理过的清水,由四周溢流回收。
清水进入清水排放口6到清水排放管7再到清水排放控制阀8,废粉体进入废粉体回收出口9再到废粉体回收阀10进行排放,污水过滤后物质积累沉淀物最后进入到排泥口11再到排泥阀进行排放。
微奈米粉体使用矽藻土
将矽藻土原矿土予以晒干,研磨成粉,再以特殊方法筛选,取微奈米级粉体,其主要数据如下:
本发明的优点和有益效果在于:简单有效的废污水处理方法,适用于都市污水、畜牧污水、制酒污水、印染污水、造纸污水及其他工业废水处理,具可达到污水排放标准可排放,再利用等优点。
上述内容仅为本发明的较佳实施例及例举的变型方式,并不用来限制本 发明,凡是在本发明的精神和原则之内,所作的任何无须创造性思维的修改与改进,均应包含在本发明的保护范围之内。
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