[发明专利]壳体及其制备方法

权利要求书

1.一种壳体的制备方法，其包括如下步骤：

使用十三氟辛基三乙氧基硅烷对纳米二氧化硅颗粒进行改性处理，制得氟烷基改性二氧化硅纳米颗粒；

将氟烷基改性二氧化硅纳米颗粒、有机溶剂和成膜助剂硫代苯磺酸钠混合均匀，制得喷涂液，其中各物质的添加比例为：每2-3g的氟烷基改性二氧化硅纳米颗粒添加0.5-0.75g的成膜助剂、50-75ml的有机溶剂；

提供塑料基体；

将所述喷涂液喷涂于塑料基体的表面并干燥，形成膜层。

2.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于：所述改性处理纳米二氧化硅颗粒的具体方法为：将纳米二氧化硅颗粒放入有机溶剂中分散均匀，再向其中加入十三氟辛基三乙氧基硅烷混合均匀，其中各物质的比例为：每2-3g的纳米二氧化硅颗粒添加0.1-0.15ml的十三氟辛基三乙氧基硅烷和30-45ml的有机溶剂。

3.如权利要求2所述的壳体的制备方法，其特征在于：该纳米二氧化硅颗粒的粒径为50-120nm。

4.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于：该成膜助剂为硫代苯磺酸钠。

5.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于：该有机溶剂为异丙醇或乙醇。

6.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于：在80-120℃的温度下干燥膜层，干燥时间为25-40min。

7.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于：该膜层的厚度为150-300nm。

8.一种壳体，其包括塑料基体及形成于塑料基体表面的膜层，其特征在于：该膜层中含有氟烷基改性的纳米二氧化硅。

9.如权利要求8所述的壳体，其特征在于：该膜层的厚度为150-300nm。