[发明专利]制造透明胞室分层结构的方法

权利要求书

1.一种制造透明胞室分层结构(100)的方法，该方法包括如下步骤：

a)获得透明的叠层结构，该叠层依次包括：由光刻树脂构成的第一层(10)、附加层(21)和第二层(22)，其中所述附加层(21)吸收光刻方法中适于用来蚀刻所述第一层的树脂的射线；

b)在所述第二层(22)上形成掩模(30)，该掩模限定了待成形胞室(1)的位置；

c)选择性地移除由所述掩模(30)限定的一部分所述第二层(22)和附加层(21)，从而在所述第二层和所述附加层中形成第一组胞室(1)；

d)将至少一种光学活性物质填充到第一组的胞室(1)中；

e)在掩模(30)被移开后，穿过第二层(22)和附加层(21)照射由光刻树脂构成的第一层(10)，从而选择性地，相对于所述第一层(10)中与附加层的剩余部分(21a)对齐的部分，该第一层中位置与第一组胞室(1)对齐的那部分变为永久凝固；

f)对第一树脂层(10)进行显影，以形成第一树脂层中的第二组胞室(1)；以及

g)将光学活性物质填充入第二组的胞室(1)中。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二层(22)由光刻树脂构成，并且在所述步骤c)中使用光刻方法。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述步骤c)中通过离子束来蚀刻所述第二层(22)。

4.如权利要求1-3中任一权利要求所述的方法，其特征在于，所述掩模(30)相对于所述第二层(22)的覆盖因子等于50％。

5.如权利要求1-3中任一权利要求所述的方法，其特征在于，所述掩模(30)具有三角形、正方形、长方形或不规则形状的样式。

6.如权利要求1-3中任一权利要求所述的方法，其特征在于，所述分层结构(100)进一步包括设置在所述第一层(10)和所述附加层(21)之间的中间薄膜(3)。

7.如权利要求1-3中任一权利要求所述的方法，其特征在于，所述分层结构(100)最初还包括支撑薄膜(8)，所述支撑薄膜设置在所述第一树脂层(10)的一侧上，并与设置所述第二层(22)的那侧相对，所述方法还包括移除所述支撑薄膜的步骤，所述移除步骤在步骤f)之前执行。

8.如权利要求1-3中任一权利要求所述的方法，其特征在于，还包括至少一个封闭胞室(1)的步骤，在该步骤中，通过将外侧薄膜(4，5)固定到所述胞室组上，所述第一和第二胞室组中的一组的胞室(1)被封闭。

9.如权利要求1-3中任一权利要求所述的方法，其特征在于，在所述步骤d)和g)中使用的光学活性物质包括：折射物质、偏振物质、吸收物质、染色物质、滤光物质或电活性物质。

10.如权利要求1-3中任一权利要求所述的方法，其特征在于，在所述步骤d)和g)中使用的光学活性物质是液体或凝胶。