[发明专利]皮带头结构

权利要求书

1.一种皮带头结构，其特征在于，所述皮带头结构包括：

一皮带头，所述皮带头在上端面形成一凹槽，所述凹槽内并形成不同高度的一第一阶面及一第二阶面，且在较高的第二阶面设置一第一定位磁铁及一第二定位磁铁；以及

一环体，所述环体的底端面设置一与所述第一定位磁铁对应相吸附的第一磁铁，及一与所述第二定位磁铁对应相吸附的第二磁铁，使环体以正向寻位并吸附在所述皮带头的凹槽处定位。

2.根据权利要求1所述的皮带头结构，其特征在于，所述皮带头的第二阶面高度比所述第一阶面高，所述第二阶面设有一位在所述凹槽中央处的第一凹面，所述第一凹面设为条状可供为条状的所述第一定位磁铁埋设，所述第二阶面在所述第一凹面的周缘设有一第一凹圆，所述第一凹圆供为凸柱状的所述第二定位磁铁埋设。

3.根据权利要求2所述的皮带头结构，其特征在于，所述环体的底端面可设置与所述第一凹面、所述第一凹圆对应的一第二凹面及一第二凹圆，所述第二凹面供设为条状的所述第一磁铁埋设，所述第二凹圆供设为凸柱状的所述第二磁铁埋设。

4.根据权利要求3所述的皮带头结构，其特征在于，所述环体的上端面绘制或贴设有一图层。

5.根据权利要求2所述的皮带头结构，其特征在于，所述凹槽中央处的第一凹面可设为圆形状供为圆形状的所述第一定位磁铁埋设，所述第一凹圆可供为圆形状的所述第二定位磁铁埋设。

6.根据权利要求5所述的皮带头结构，其特征在于，所述环体的底端面可埋设一与所述皮带头为圆形状的第一定位磁铁对应相吸附的圆形状第一磁铁，及一位在所述第一磁铁的周缘并与所述圆形状的第二定位磁铁对应相吸附的圆形状第二磁铁。

7.根据权利要求6所述的皮带头结构，其特征在于，所述环体的上端面绘制或贴设有一图层。

8.根据权利要求1所述的皮带头结构，其特征在于，所述第二阶面的高度比所述第一阶面高，所述第二阶面设有位在所述凹槽中央处分别并列并埋设一为圆形状的第一定位磁铁与一为圆形状的第二定位磁铁。

9.根据权利要求8所述的皮带头结构，其特征在于，所述环体的底端面可分别并列埋设与所述第一定位磁铁、第二定位磁铁对应相吸附且为同形状的一第一磁铁与一第二磁铁。

10.根据权利要求9所述的皮带头结构，其特征在于，所述环体的上端面绘制或贴设有一图层。