[发明专利]一种高浓度PbSe量子点硅酸盐玻璃的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210125245.8 申请日: 2012-04-25
公开(公告)号: CN102674692A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 程潇羽;程成 申请(专利权)人: 程潇羽
主分类号: C03C4/12 分类号: C03C4/12;C03C3/118
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 黄美娟;王兵
地址: 310014 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 浓度 pbse 量子 硅酸盐 玻璃 制备 方法
【说明书】:

(一)技术领域

发明涉及光通信技术和纳米材料制备领域,具体涉及一种含较高浓度PbSe量子点的硅酸盐玻璃的制备方法。 

(二)背景技术

半导体量子点及其光学特性是人们的研究热点。在众多的量子点种类中,IV-VI族半导体量子点(例如PbSe、PbS)由于其强的光学吸收和荧光辐射特性,受到了人们的极大关注。研究表明,与天然稀土元素(如铒、铥等)掺杂的光纤器件比较,由PbSe量子点构成的光纤放大器具有宽带宽、增益平坦等优点;PbSe量子点光纤激光器具有泵浦效率高、饱和浓度低和光纤饱和长度短等特点,展现了PbSe量子点在光增益器件方面的广阔应用前景。 

制备量子点的方法很多,如分子束外延法、溶胶-凝胶法、本体聚合法、高温熔融法等。其中,熔融法是近年来人们关注的热点之一。融熔法通过热处理处理,直接在玻璃基质中生长量子点,形成了量子点与基底玻璃之间的介电限域效应,从而增强了量子点的荧光辐射。同时,玻璃基质为量子点提供了稳定的基底环境,使得量子点的热稳定性和化学稳定性都得到了提高。 

对熔融法制备PbSe量子点硅酸盐玻璃曾有一些报道。例如:Chang J,Liu C,Heo J.Optical properties of PbSe quantum dots doped in borosilicate glass[J].J.Non-Crys.Solids,2009,355(37-42):1897~1899报道,将PbSe掺入到SiO2-B2O3-ZnO-K2O中,通过温度≤510℃条件下的热处理,获得了含PbSe量子点的硅酸盐玻璃。Silva R S,Morais P C,Alcalde A M,et al.Optical properties of PbSe quantum dots  embedded in oxide glasses[J].J.Non-Crys.Solids,2006,352(32-35):3522~3524.以PbO2和Se作为量子点前驱体,通过热处理制备得到了含PbSe量子点的硅酸盐玻璃(SiO2-Na2CO3-Al2O3-B2O3)。由于上述两种方法的热处理温度较低(≤510℃),因此,制备得到的量子点数密度较低,粒度分布较窄,其PL峰FWHM约为200~400nm。且它们没有涉及热处理条件对PL强度和FWHM的影响,因而人们也无从得知硅酸盐玻璃中PbSe量子点PL辐射强度的具体情况。而PL强度及其FWHM对于量子点光电子器件非常重要和必须要了解的参量。 

CN201010546623.0用PbO和Se作为前驱体,制备了含PbSe量子点的硅酸盐玻璃(SiO2-B2O3-Al2O3-ZnO-AlF3-Na2O)。但由于在制备过程中硅酸盐玻璃熔融温度较高(>1350℃),而Se在高温下极易挥发,因此,在基础配料中可用来形成PbSe量子点的Se含量实际并不高。大量的实验表明,采用该技术路线所能得到的量子点的掺杂体积比一般很难超过1%。而量子点掺杂体积比或浓度对于增益型器件(例如:量子点光放大器、量子点激光器)至关重要,要产生激射,掺杂体积比必须要达到一个较高的阈值(例如>2%)。因此,人们希望有更高的掺杂体积比,来实现激射或高增益的量子点光电子器件。 

(三)发明内容

为了解决单质Se组分的高温易挥发的问题,本发明提供一种较高浓度PbSe量子点硅酸盐玻璃的制备方法,关键在于用高温下不易挥发的ZnSe来代替Se单质,制备得到较高浓度PbSe量子点的硅酸盐玻璃(PbSe QD SiO2-B2O3-Al2O3-ZnO-AlF3-Na2O)。 

本发明采用的技术方案是: 

一种高浓度PbSe量子点硅酸盐玻璃的制备方法,所述高浓度PbSe量子点硅酸盐玻璃由如下质量百分比的原料制成: 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于程潇羽,未经程潇羽许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210125245.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top