[发明专利]一种高浓度PbSe量子点硅酸盐玻璃的制备方法无效
申请号: | 201210125245.8 | 申请日: | 2012-04-25 |
公开(公告)号: | CN102674692A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 程潇羽;程成 | 申请(专利权)人: | 程潇羽 |
主分类号: | C03C4/12 | 分类号: | C03C4/12;C03C3/118 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人: | 黄美娟;王兵 |
地址: | 310014 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 浓度 pbse 量子 硅酸盐 玻璃 制备 方法 | ||
(一)技术领域
本发明涉及光通信技术和纳米材料制备领域,具体涉及一种含较高浓度PbSe量子点的硅酸盐玻璃的制备方法。
(二)背景技术
半导体量子点及其光学特性是人们的研究热点。在众多的量子点种类中,IV-VI族半导体量子点(例如PbSe、PbS)由于其强的光学吸收和荧光辐射特性,受到了人们的极大关注。研究表明,与天然稀土元素(如铒、铥等)掺杂的光纤器件比较,由PbSe量子点构成的光纤放大器具有宽带宽、增益平坦等优点;PbSe量子点光纤激光器具有泵浦效率高、饱和浓度低和光纤饱和长度短等特点,展现了PbSe量子点在光增益器件方面的广阔应用前景。
制备量子点的方法很多,如分子束外延法、溶胶-凝胶法、本体聚合法、高温熔融法等。其中,熔融法是近年来人们关注的热点之一。融熔法通过热处理处理,直接在玻璃基质中生长量子点,形成了量子点与基底玻璃之间的介电限域效应,从而增强了量子点的荧光辐射。同时,玻璃基质为量子点提供了稳定的基底环境,使得量子点的热稳定性和化学稳定性都得到了提高。
对熔融法制备PbSe量子点硅酸盐玻璃曾有一些报道。例如:Chang J,Liu C,Heo J.Optical properties of PbSe quantum dots doped in borosilicate glass[J].J.Non-Crys.Solids,2009,355(37-42):1897~1899报道,将PbSe掺入到SiO2-B2O3-ZnO-K2O中,通过温度≤510℃条件下的热处理,获得了含PbSe量子点的硅酸盐玻璃。Silva R S,Morais P C,Alcalde A M,et al.Optical properties of PbSe quantum dots embedded in oxide glasses[J].J.Non-Crys.Solids,2006,352(32-35):3522~3524.以PbO2和Se作为量子点前驱体,通过热处理制备得到了含PbSe量子点的硅酸盐玻璃(SiO2-Na2CO3-Al2O3-B2O3)。由于上述两种方法的热处理温度较低(≤510℃),因此,制备得到的量子点数密度较低,粒度分布较窄,其PL峰FWHM约为200~400nm。且它们没有涉及热处理条件对PL强度和FWHM的影响,因而人们也无从得知硅酸盐玻璃中PbSe量子点PL辐射强度的具体情况。而PL强度及其FWHM对于量子点光电子器件非常重要和必须要了解的参量。
CN201010546623.0用PbO和Se作为前驱体,制备了含PbSe量子点的硅酸盐玻璃(SiO2-B2O3-Al2O3-ZnO-AlF3-Na2O)。但由于在制备过程中硅酸盐玻璃熔融温度较高(>1350℃),而Se在高温下极易挥发,因此,在基础配料中可用来形成PbSe量子点的Se含量实际并不高。大量的实验表明,采用该技术路线所能得到的量子点的掺杂体积比一般很难超过1%。而量子点掺杂体积比或浓度对于增益型器件(例如:量子点光放大器、量子点激光器)至关重要,要产生激射,掺杂体积比必须要达到一个较高的阈值(例如>2%)。因此,人们希望有更高的掺杂体积比,来实现激射或高增益的量子点光电子器件。
(三)发明内容
为了解决单质Se组分的高温易挥发的问题,本发明提供一种较高浓度PbSe量子点硅酸盐玻璃的制备方法,关键在于用高温下不易挥发的ZnSe来代替Se单质,制备得到较高浓度PbSe量子点的硅酸盐玻璃(PbSe QD SiO2-B2O3-Al2O3-ZnO-AlF3-Na2O)。
本发明采用的技术方案是:
一种高浓度PbSe量子点硅酸盐玻璃的制备方法,所述高浓度PbSe量子点硅酸盐玻璃由如下质量百分比的原料制成:
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