[发明专利]辐射成像设备无效

专利信息
申请号: 201210127387.8 申请日: 2012-04-26
公开(公告)号: CN102860833A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 桥本温之 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;G01N23/04
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 夏东栋;陆锦华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 辐射 成像 设备
【权利要求书】:

1.一种辐射成像设备,其包括:

第一光栅,用于通过来自辐射源的辐射,以产生第一周期图案图像;

第二光栅,其面向所述第一光栅,所述第二光栅部分地遮蔽所述第一周期图案图像,以产生具有莫尔条纹的第二周期图案图像;

辐射图像检测器,其具有在具有彼此垂直的第一方向和第二方向的平面中排列的多个像素,所述辐射图像检测器使用所述像素检测所述第二周期图案图像,以产生图像数据,所述辐射图像检测器被布置使得具有高锐度的所述第一方向与所述莫尔条纹相交;

微分相位图像产生部,其用于基于所述图像数据来产生微分相位图像。

2.根据权利要求1所述的辐射成像设备,其中所述辐射图像检测器是光学读取类型的,并且具有在所述第一方向上延伸的线性读取光源,并且所述辐射图像检测器利用在与所述第一方向垂直的所述第二方向上扫描的所述线性读取光源来读出作为一行的像素值的、在所述第一方向上排列的每个像素中累积的电荷。

3.根据权利要求1所述的辐射成像设备,其中所述微分相位图像产生部使用在所述第一方向上排列的预定数量的像素作为一组,并且在所述第一方向上每次将所述组移位一个或多个像素,以计算由在每组中的像素值构成的强度调制的信号的相位,以产生所述微分相位图像。

4.根据权利要求3所述的辐射成像设备,其中将所述组移位一个像素。

5.根据权利要求4所述的辐射成像设备,其中构成所述组的像素的数量等于与所述莫尔条纹的单个周期对应的像素的数量的整数倍。

6.根据权利要求5所述的辐射成像设备,其中构成所述组的像素的数量等于与所述莫尔条纹的所述单个周期对应的像素的数量。

7.根据权利要求3所述的辐射成像设备,其中构成所述组的像素的数量小于与所述莫尔条纹的单个周期对应的像素的数量。

8.根据权利要求1所述的辐射成像设备,其中所述微分相位图像产生部对于所述图像数据进行傅立叶变换、与载波频率对应的频谱的提取和逆傅立叶变换,以产生所述微分相位图像。

9.根据权利要求1所述的辐射成像设备,其中通过将所述第二光栅布置在相对于所述第一光栅的旋转状态中并且同时将所述第二光栅的光栅表面保持与所述第一光栅平行以产生所述莫尔条纹,并且所述莫尔条纹与所述第一光栅和第二光栅的光栅方向基本上垂直。

10.根据权利要求1所述的辐射成像设备,其中通过调整在所述第一光栅和所述辐射源之间的距离以及在所述第二光栅和所述辐射源之间的距离或所述第一光栅和第二光栅的每一个的光栅节距来产生所述莫尔条纹,并且,所述莫尔条纹与所述第一光栅和第二光栅的光栅方向基本上平行。

11.根据权利要求1所述的辐射成像设备,其中通过将所述第二光栅布置在相对于所述第一光栅的旋转状态中并且同时将所述第二光栅的光栅表面保持与所述第一光栅平行,并且通过调整面向方向的第一和第二光栅之间的位置关系,或通过调整所述第一光栅和第二光栅的每一个的光栅节距,来产生所述莫尔条纹,并且所述莫尔条纹与所述第一和第二光栅的光栅方向不垂直也不平行。

12.根据权利要求1所述的辐射成像设备,其还包括相衬图像产生部,用于在与所述第一光栅和第二光栅的光栅方向基本垂直的方向上对所述微分相位图像进行积分,以产生相衬图像。

13.根据权利要求1所述的辐射成像设备,其还包括:

校正图像存储部,其用于将基于在没有被摄体的情况下获得的图像数据产生的微分相位图像存储作为校正图像;以及

校正处理器,其用于从基于在具有被摄体的情况下获得的图像数据产生的所述微分相位图像减去所述校正图像。

14.根据权利要求13所述的辐射成像设备,其还包括相衬图像产生部,用于在与所述第一光栅和第二光栅的光栅方向基本垂直的方向上对由所述校正处理器校正的校正后的微分相位图像进行积分,以产生所述相衬图像。

15.根据权利要求1所述的辐射成像设备,其中所述第一光栅是吸收光栅,并且所述第一光栅以几何光学方式将入射的辐射投射到所述第二光栅,以产生所述第一周期图案图像。

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