[发明专利]一种新型宽幅遮阳材料及其制作方法

权利要求书

1.一种新型宽幅遮阳材料，由基材膜及在基材膜上依次顺序沉积的电介质膜层、金属膜层、电介质膜层、掺杂VO₂膜层、电介质膜层组成。

2.一种新型宽幅遮阳材料，由基材膜及在基材膜上依次顺序沉积的掺杂VO₂膜层、电介质膜层、金属膜层、电介质膜层组成。

3.一种新型宽幅遮阳材料，由基材膜及在基材膜上依次沉积的电介质膜层、金属膜层、电介质膜层、金属膜层、掺杂VO₂膜层、电介质膜层组成。

4.权利要求1至3任一项所述的宽幅遮阳材料，其特征是基材膜是厚度8um-100um，宽度1000mm-2500mm的柔性连续卷材，材质选自各种塑料薄膜或者非金属材料编织物。

5.权利要求1至4任一项所述的宽幅遮阳材料，其特征是金属膜材质选自银、铜、金、铝、镍、锌、钼、钛、铬、锡、铂、钨、钯、钒、钽、铟中的一种或任意几种，每层膜的厚度5nm-250nm。

6.权利要求1至5任一项所述的宽幅遮阳材料，其特征是电介质膜层材质选自金属氧化物、金属硫化物、金属硼化物、金属碳氮化物、金属氮化物的一种或任意几种，电介质膜层沉积厚度2nm-200nm。

7.权利要求1至6任一项所述的宽幅遮阳材料，其特征是掺杂金属选自金、银、钨、钼、铜、铝或钛，掺杂VO₂膜的沉积厚度在2nm-50nm。

8.一种新型宽幅遮阳材料的制备方法：以厚度8um-100um，宽度1000mm-2500mm的柔性连续卷材为基材，经导向辊平整连续地进入磁控溅射装置反应室内，反应室抽真空，真空度不低于2×10^-3Pa，采用真空镀膜技术在基材上依次沉积各膜层。

9.权利要求8所述的宽幅遮阳的制备方法，其特征是材料基材沉积表面朝下放置。