[发明专利]等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201210127627.4 申请日: 2012-04-26
公开(公告)号: CN102647847A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 角田孝典;松原克夫;安东靖典;辻藏行 申请(专利权)人: 日新电机株式会社
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;C23C16/505;H01J37/32
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本京都府京都*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 等离子体 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种等离子体处理装置,其是通过使高频电流流入平面形状为平直的天线中而使真空容器内产生感应电场,生成等离子体,且利用该等离子体对基板实施处理的电感耦合型等离子体处理装置,其特征在于:

由相互接近而配置在使竖立在所述基板表面的垂线伸缩的方向上且使所述高频电流相互逆向地流动的返回导体构成所述天线,

且使所述返回导体间的在使所述垂线伸缩的方向上的间隔,在所述天线的长度方向上进行变化。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于:

将所述返回导体间的在使所述垂线伸缩的方向上的间隔,设成在所述天线的长度方向上的两端部的间隔大于中央部的间隔。

3.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置,其特征在于:

包括多个所述天线,且该些所述天线为相互并联配置,

该等离子体处理装置是以经由与各该天线分别串联连接的可变阻抗,将高频电力并列地自共通的高频电源供给到该多个天线的方式构成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日新电机株式会社,未经日新电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210127627.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top