[发明专利]一种清洗雾化喷射装置有效
申请号: | 201210127692.7 | 申请日: | 2012-04-26 |
公开(公告)号: | CN102641865A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 刘效岩;吴仪;初国超;刘海晓 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B05B17/04 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 韩国胜;王莹 |
地址: | 100015 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 清洗 雾化 喷射 装置 | ||
1.一种清洗雾化喷射装置,其特征在于,包括:上壳体、与上壳体连接的下壳体;所述上壳体为二阶圆筒状,包括第一阶壳体和第二阶壳体,第一阶壳体的横截面积小于第二阶壳体的横截面积,所述第二阶壳体中设有换能器;所述下壳体的两侧壁设有第二通气孔,所述下壳体的中心位置设有雾化喷射通孔,所述第二通气孔与雾化喷射通孔相通且具有夹角。
2.如权利要求1所述的清洗雾化喷射装置,其特征在于,所述换能器包括呈圆筒状且其表面设有多个第一通气孔的换能器主体和耦合层,所述耦合层通过耦合层支撑部件固定在换能器主体内部。
3.如权利要求2所述的清洗雾化喷射装置,其特征在于,所述耦合层包括压电晶体和耦合片,所述压电晶体通过导电胶与耦合片连接。
4.如权利要求3所述的清洗雾化喷射装置,其特征在于,所述耦合片由单一介质或多种介质制成,其厚度为1/4波长的整数倍。
5.如权利要求3所述的清洗雾化喷射装置,其特征在于,还包括密封圈,所述密封圈设置于耦合层的下表面,用于密封耦合层和耦合层支撑部件。
6.如权利要求1所述的清洗雾化喷射装置,其特征在于,所述第一阶壳体的一侧设有进气孔,所述第二阶壳体的一侧设有进液孔。
7.如权利要求1所述的清洗雾化喷射装置,其特征在于,所述第二通气孔与雾化喷射通孔之间的夹角为20-70°。
8.如权利要求2所述的清洗雾化喷射装置,其特征在于,所述耦合层下表面与下壳体雾化喷射通孔上表面之间的垂直距离为1mm-10mm。
9.如权利要求1所述的清洗雾化喷射装置,其特征在于,所述换能器主体的侧壁至所述上壳体中的第二阶壳体内壁距离为1mm-10mm。
10.如权利要求2所述的清洗雾化喷射装置,其特征在于,所述第一通气孔的孔径为1-3mm,其由上至下按圆周切面方向依次排列在所述换能器主体上。
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