[发明专利]一种用于圆筒状射流态直接电沉积设备的阳极无效

专利信息
申请号: 201210129092.4 申请日: 2012-04-27
公开(公告)号: CN102634822A 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 邱建宁;徐纯理;赵路;李新华;杨斗 申请(专利权)人: 工信华鑫科技有限公司
主分类号: C25C7/02 分类号: C25C7/02
代理公司: 北京市盛峰律师事务所 11337 代理人: 赵建刚
地址: 100036 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 圆筒状 射流 直接 沉积 设备 阳极
【权利要求书】:

1.一种用于圆筒状射流态直接电沉积设备的阳极,其特征在于:包括阳极管、上同轴定位柱和下同轴定位柱;所述阳极管为中空的圆筒,所述阳极管的外缘面上均布射流孔,所述下同轴定位柱为中空管;所述阳极管的一端连接所述上同轴定位柱,另一端连接所述下同轴定位柱;所述阳极管、所述上同轴定位柱和所述下同轴定位柱同轴设置,并且所述阳极管的筒内空腔与所述下同轴定位柱中的中空管连通。

2.根据权利要求1所述的用于圆筒状射流态直接电沉积设备的阳极,其特征在于:所述下同轴定位柱的外圆面一端为光轴,另一端为外螺纹,光轴的一端连接到所述阳极管。

3.根据权利要求2所述的用于圆筒状射流态直接电沉积设备的阳极,其特征在于:所述光轴的外圆面能够与接触防水O型圈作为密封面,所述外螺纹与外界正极接头螺母上的内螺纹相配合。

4.根据权利要求1所述的用于圆筒状射流态直接电沉积设备的阳极,其特征在于:所述阳极管为钛合金管。

5.根据权利要求1所述的用于圆筒状射流态直接电沉积设备的阳极,其特征在于:所述射流孔的直径为1mm-4mm。

6.根据权利要求1所述的用于圆筒状射流态直接电沉积设备的阳极,其特征在于:最上排所述射流孔和最下排所述射流孔之间的长度为0.8m-1.2m。

7.根据权利要求1所述的用于圆筒状射流态直接电沉积设备的阳极,其特征在于:所述射流孔的尺寸、数量和位置都需要根据电沉积系统的规模、电沉积对象、原料溶液的浓度成分以及溶液流体压力经试验而确定。

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