[发明专利]耐磨开孔器及其制备方法

权利要求书

1.一种耐磨开孔器，包括定位安装部、连接部、开孔钻头部以及定位钻头部，连接部向下一体制出定位安装部，连接部上面中心向上一体制出定位钻头部，连接部上端圆周向上一体制出开孔钻头部，其特征在于：在开孔钻头部外壁以及定位钻头部外壁均匀喷涂二硫化钼氮化钛复合薄膜。

2.根据权利要求1所述的耐磨开孔器，其特征在于：该二硫化钼氮化钛复合薄膜由内层至外层分别包括钛的扩散过渡层、氮化钛支持层以及二硫化钼氮化钛复合层，钛的扩散过渡层的厚度为250～1300nm，氮化钛支持层的厚度为500～800nm，二硫化钼氮化钛复合层的厚度为1000～1800nm。

3.一种如权利要求1所述的耐磨开孔器的制备方法，其特征在于：该制备方法包括的步骤如下：

(1)、开启设备：将开孔器处理后露出开孔钻头部外壁以及定位钻头部外壁放入真空室内的转盘上，使真空室压力为10^e-2帕，开始升温，并保持温度在70-200℃；继续抽真空至小于6×10^e-3帕为止；启动转盘，转盘转速1-3转/分钟；

(2)、开孔器清洗刻蚀：通入200-400标况毫升每分的氩气，使真空室内压力达到1.0-2.5帕；打开负偏压电源，对开孔器施加负偏压-800伏，占空比10-30％；时间10-20分钟；

(3)、抽气：关闭负偏压电源和氩气，抽真空至小于6×10^e-3帕；

(4)、钛的扩散过渡层沉积：通入150-200标况毫升每分的氩气，保持真空度0.5-1.0帕，开启负偏压电源，-400--600伏，占空比40-60％，然后开启钛靶磁控电源，电流10-15安，时间10-20分钟后，降低负偏压至-150--300V，继续沉积，时间10-20分钟，形成钛的扩散过渡层；

(5)、氮化钛支持层沉积：逐步通入100-200标况毫升每分的氮气，关闭氩气，真空度保持不变，继续沉积，沉积时间30-60分钟，形成氮化钛支持层；

(6)、二硫化钼氮化钛复合层沉积：通入100-150标况毫升每分氩气，真空度0.5-1.2帕，开启二硫化钼磁控电源，磁控电流3-8安，沉积60-120分钟，形成二硫化钼氮化钛复合层；

(7)、保养：关闭所有气体，负偏压电源、钛靶磁控电源以及二硫化钼磁控电源，保持抽真空，控制真空度在10^-3帕，10-30分钟，得到耐磨开孔器。

3、根据权利要求2所述的类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于：所述的制备薄膜的载体为钢板。

4.根据权利要求2所述的类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于：所述的制备薄膜的载体为刀、电机中的导条、开孔器、压缩机中的活塞、活塞销、曲轴或者连杆。