[发明专利]三维测量装置有效

专利信息
申请号: 201210132207.5 申请日: 2012-04-27
公开(公告)号: CN103162641A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 梅村信行;间宫高弘;石垣裕之 申请(专利权)人: CKD株式会社
主分类号: G01B11/25 分类号: G01B11/25
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 11216 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 三维 测量 装置
【权利要求书】:

1.一种三维测量装置,其包括:

第1照射机构,该第1照射机构具有发出规定的光的第1光源与第1光栅,该第1光栅将来自该第1光源的光变换为具有条纹状的光强度分布的第1光图案,该第1照射机构能将该第1光图案从第1位置照射到被测量物;

第1光栅控制机构,该第1光栅控制机构控制上述第1光栅的移送或切换,多次地改变从上述第1照射机构照射的上述第1光图案的相位;

第2照射机构,该第2照射机构具有发出规定的光的第2光源与第2光栅,该第2光栅将来自该第2光源的光变换为具有条纹状的光强度分布的第2光图案,该第2照射机构能将该第2光图案从不同于上述第1位置的第2位置照射到被测量物;

第2光栅控制机构,该第2光栅控制机构控制上述第2光栅的移送或切换,多次地改变从上述第2照射机构照射的上述第2光图案的相位;

摄像机构,该摄像机构能对反射光进行摄像,该反射光来自照射了上述第1光图案或第2光图案的上述被测量物;

图像处理机构,该图像处理机构依据多个图像数据通过相移法进行三维测量,该多个图像数据依据相位多次发生变化的上述第1光图案或第2光图案的照射而获得,其特征在于,

进行第1摄像处理或第2摄像处理中的一个摄像处理,

在上述其中一个摄像处理结束的同时,开始进行该一个摄像处理相关的上述第1光栅或上述第2光栅的移送或切换处理,

能在不等待上述移送或切换处理完成的情况下,进行上述两个摄像处理中的另一摄像处理,

上述第1摄像处理为,照射上述相位不同的多个第1光图案而进行的多次摄像处理中的一次,

上述第2摄像处理为,照射上述相位不同的多个第2光图案而进行的多次摄像处理中的一次。

2.根据权利要求1所述的三维测量装置,其特征在于,能在上述两个摄像处理中的一个摄像处理结束的同时,开始该一个摄像处理相关的上述第1光栅或上述第2光栅的移送或切换处理,并且开始上述两个摄像处理中的另一摄像处理。

3.根据权利要求1所述的三维测量装置,其特征在于,至少在进行上述各摄像处理的期间,将上述摄像机构和上述被测量物的位置关系固定。

4.根据权利要求2所述的三维测量装置,其特征在于,至少在进行上述各摄像处理的期间,将上述摄像机构和上述被测量物的位置关系固定。

5.根据权利要求1~4中的任意一项所述的三维测量装置,其特征在于,将上述第1光图案作为第1周期的光图案,并且将上述第2光图案作为与上述第1周期不同的第2周期的光图案。

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