[发明专利]有机电致发光显示装置的制造方法和包括由该制造方法制造的有机电致发光显示装置的电子设备

说明书

技术领域

本发明涉及有机电致发光(EL)显示装置的制造方法和包括由该制造方法制造的有机EL显示装置的电子设备。 

背景技术

通常已知的其上安装了有机EL元件的显示装置是将均具有单个或多个有机EL元件的像素以预定的图案排列的装置。通过这些像素，将显示装置的显示区域两维并且精细地分割。像素中包括的有机EL元件是输出例如红光、绿光和蓝光的任一种的电子元件。其上安装了有机EL元件的显示装置通过以所需的发光强度驱动用于输出所需颜色的有机EL元件而得到全色图像。 

顺便提及，作为显示装置的部件的有机EL元件中，该元件中的有机化合物层是通过采用气相沉积等形成由有机材料制成的薄膜而形成的薄膜层。采用气相沉积对每个元件形成显示装置的有机EL元件中的有机化合物层时，精细图案化(fine patterning)技术是必须的。进行图案化时，其精细度(fineness)对应图案化的精细度的精细金属掩模是必须的。但是，气相沉积中反复使用金属掩模时附着的气相沉积膜可能使掩模中的开口变窄或者应力可能使掩模中的开口变形。因此，必须在固定次数的成膜后清洁使用的掩模，从制造成本的观点出发，这是不利的因素。此外，部分由于对掩模的加工精度的制约，像素尺寸具有约100μm的极限，这对于更精细尺寸是不利的。此外，关于基板尺寸，使精细金属掩模的尺寸增加时，为了确保掩模中的开口的位置精度，必须提高掩模框的刚性。但是，提高掩模的刚性时，相应地引起掩模自身重量的增加。因此，从加工性和处理性两者的观点出发，制备第四代及其后的大版式显示装置时，精细有机EL元件和其 上安装了该有机EL元件的显示装置的最佳制备方法目前尚未具体化。 

在这些情况下，提出了不使用金属掩模来制造具有精细有机EL元件的显示装置的方法。 

日本专利No.3839276中提出的方法中，在发光层上直接形成光致抗蚀剂。采用该方法时，通常使用的光致抗蚀剂含有大量的光引发剂、交联剂等。其中，光引发剂、交联剂等均为用于使至少在显像剂中的不溶性变化的材料。在日本专利No.4507759中提出的方法中，在有机化合物层上设置由水溶性材料形成的中间层，并且在该中间层上通过进行光刻法(photolithography)来将有机化合物层图案化。其中，用于构成在发光层上形成的中间层的水溶性聚合物通常为绝缘性的。此外，日本专利No.4544811提出了如下的技术：将水溶性聚合物用作剥离层并且与剥离层一起将光致抗蚀剂剥离。 

抗蚀剂、中间层、剥离层等通常是绝缘性的。因此，这些层的任一个残留在有机EL元件的发光层等的表面上时，该层作为电阻显著地使有机EL元件的元件特性劣化。因此，需要将抗蚀剂、中间层、剥离层等除去以致这些层的任一个都不可能残留在发光层等的表面上。但是，难以将均由聚合物材料形成的抗蚀剂、中间层、剥离层等完全除去，因此，不能完全除去的残渣在某种程度上残留于装置内。此外，由于例如以下内容，对元件特性的劣化产生担心。抗蚀剂、中间层、剥离层等中的痕量的杂质或者涂布抗蚀剂、中间层、剥离层等时使用的溶剂扩散到构成有机化合物层的发光层等以引起有机化合物层的结晶。因此，以往产生了以下问题。通过包括采用光刻法的图案化制备的有机EL显示装置中的有机EL元件的元件特性劣于使用金属掩模等以真空原位(vacuum in-situ)方式以图案状形成的有机EL元件的元件特性。 

发明内容

本发明为了解决上述问题而完成，并且本发明的目的在于提供包括有机EL元件的有机EL显示装置的制造方法，其具有与用金属掩模等以真空原位方式形成的有机EL元件的那些相当的元件特性，同时利 用基于光刻法的图案化方法。 

本发明的有机EL显示装置的制造方法是制造有机EL显示装置的方法，该有机EL显示装置具有有机EL元件，该有机EL元件包括第一电极和第二电极以及配置在该第一电极和该第二电极之间的有机化合物层，将该有机化合物层图案化为所需的形状，该方法包括：至少在第一电极上形成有机化合物层的有机化合物层形成步骤；在有机化合物层上形成剥离层的剥离层形成步骤；将剥离层加工为所需形状的剥离层加工步骤；将没有被在剥离层加工步骤中加工过的剥离层覆盖的区域中的有机化合物层除去的有机化合物层加工步骤；和剥离层除去步骤，其中剥离层的至少最下层是由在极性溶剂中可溶的材料形成的沉积膜。 

根据本发明，能够提供包括有机EL元件的有机EL显示装置的制造方法，其具有与以真空原位方式使用金属掩模等形成的有机EL元件的那些相当的元件特性，同时利用基于光刻法的图案化方法。