[发明专利]一种自修复透明抗菌涂层的制备方法

权利要求书

1.一种基于层层组装技术制备自修复透明抗菌涂层的方法，其步骤如下：

A.将聚阳离子和聚阴离子分别溶于溶剂配成浓度为0.01～100mg/mL、pH值为1～14的构筑基元溶液；

B.将清洁处理后的基底浸入到聚阳离子构筑基元溶液中1～40分钟，然后将基底取出，水洗除去基底表面物理吸附的物质；

C.将上步骤基底浸入聚阴离子构筑基元溶液中1～40分钟，然后将基底取出，水洗除去基底表面物理吸附的物质；从而完成一个沉积周期的涂层制备；

D.重复步骤B、C，在基底上完成多个沉积周期的涂层的制备，从而得到具有自修复透明涂层的基底；

E.将抗菌剂溶液分散到浓度为0.01～1mol/L的表面活性剂溶液中，抗菌剂与表面活性剂的摩尔比为1∶300～1∶50，超声5～200分钟后得到抗菌剂溶液；

F.将具有自修复透明涂层的基底浸泡在上步骤的抗菌剂溶液中5～200分钟，然后将基底取出，水洗后用氮气吹干，从而在基底上制备得到自修复透明抗菌涂层。

2.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复透明抗菌涂层的方法，其特征在于：聚阳离子为聚烯丙基胺盐酸盐、聚乙烯基亚胺、明胶、聚四乙烯基吡啶、聚二烯丙基二甲基胺盐酸盐、壳聚糖、聚L-赖氨酸、聚苯胺中的一种或几种。

3.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复透明抗菌涂层的方法，其特征在于：聚阴离子为透明质酸、聚丙烯酸、海藻酸钠、聚苯乙烯磺酸钠、磺化聚醚醚酮、磺化葡聚糖中的一种或几种。

4.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复透明抗菌涂层的方法，其特征在于：聚阳离子和聚阴离子的用量摩尔比为1∶10～10∶1。

5.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复透明抗菌涂层的方法，其特征在于：抗菌剂为三氯生、甲硝唑、头孢曲松钠、头孢唑林钠、头孢霉素、硝酸银、壳聚糖、聚ε-赖氨酸中的一种或几种。

6.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复透明抗菌涂层的方法，其特征在于：表面活性剂为十二烷基硫酸钠、十六烷基三甲基溴化铵、苄基十六烷基氯化铵、十二烷基苯磺酸钠中的一种或几种。

7.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复透明抗菌涂层的方法，其特征在于：溶剂为水、丙酮、乙醇、N，N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、氯仿、二氯甲烷中的一种或几种。

8.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复透明抗菌涂层的方法，其特征在于：聚阳离子构筑基元溶液的浓度为0.1～50mg/mL，pH值为2～12之间；聚阴离子构筑基元溶液的浓度为0.1～50mg/mL，pH值为2～12，聚阳离子和聚阴离子的用量摩尔比为1∶8～8∶1。

9.如权利要求8所述一种基于层层组装技术制备自修复透明抗菌涂层的方法，其特征在于：聚阳离子构筑基元溶液的浓度为1～10mg/mL，pH值为7.5～12；聚阴离子构筑基元溶液的浓度为1～10mg/mL，pH值为2～6.5，聚阳离子和聚阴离子的用量摩尔比为1∶5～5∶1。

10.如权利要求1所述一种基于层层组装技术制备自修复透明抗菌涂层的方法，其特征在于：基底为石英、光学玻璃、单晶硅、氟化钙、金属或塑料。