[发明专利]仿生陶瓷/金属叠层复合支架涂层制备工艺无效

专利信息
申请号: 201210132903.6 申请日: 2012-04-28
公开(公告)号: CN102644077A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 徐江 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00;C23C14/14;C23C14/34;C23C8/36;A61F2/82;A61L27/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 李纪昌
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 仿生 陶瓷 金属 复合 支架 涂层 制备 工艺
【说明书】:

 

技术领域

发明提供了一种制备仿生Ta2O5/Au(Mg)叠层复合支架涂层的新方法。适用于在金属支架表面制备高耐蚀、良好的血液相容性、高的结合力与强韧性涂层,涉及到双阴极等离子溅射沉积和离子氧化复合工艺以及涂层材料的结构设计与选材的领域。

 

背景技术

随着人口老龄化日益加速,以及人类生活水平的提高对人们的身体健康带来了一些负面的影响, 冠心病、动脉粥样硬化、心脏瓣膜病等心血管疾病发生率不断上升,己成为威胁人类生命的主要疾病之一。统计数据表明:21世纪初,全球每年因心血管疾病死亡约1700 万人,约占全球死亡人数的1/3,其中80%分布在中低等收入国家,预计到2020 年死亡人数将达2500 万人/年,因此心血管疾病的防治已成为国内外医学界关注的焦点。自1987年美国的sigwart医生成功在动物体内实施了第一例植入血管支架手术开始,经过近20年的发展,血管内支架和人工瓣膜已经广泛用于心血管疾病的介入治疗。常用的支架金属材料,如316L不锈钢、Ti-6Al-4V等,以其良好的机械性能及生物相容性在心血管疾病治疗领域得到广泛的应用。但这些金属材料在充满电解质的血液容易中易发生局部腐蚀,其结果不仅使支架本身的机械强度降低,同时腐蚀后溶出的金属离子会对周围组织产生毒性反应和诱发血小板激活从而造成血管再狭窄。目前,采用表面改性手段在金属支架表面制备各种涂层,将基体材料的力学性能和涂层材料的生物学特性有效地结合,已成为改善生物医用金属植入材料耐蚀性及血液相容性最为有效的方法之一。目前,金属支架无机涂层的主要缺陷是涂层的脆性和结合力不足。

发明内容

解决的技术问题:本发明的目的在于模拟贝壳珍珠层结构,交替采用双阴极等离子溅射沉积和离子氧化的复合工艺,在316L不锈钢表面制备仿生Ta2O5/Au(Mg)叠层复合涂层。该涂层中Ta2O5层具有良好的耐腐蚀性和血液相容性,而金属Au或Mg层具有低弹性模量和良好生物相容性,不仅可以提高涂层的韧性,还可改善涂层与基材的结合强度。

技术方案:等离子溅射装置为双阴极结构,通过调节靶材与工件电压以及沉积的时间,达到控制叠层复合涂层调制周期与调制比的目的。对于离子氧化,优化相应工艺参数(温度、时间、氧分压),以得到综合性能优异的Ta2O5/Au(Mg)叠层复合涂层。

仿生陶瓷/金属叠层复合支架涂层制备工艺,步骤为:

a. 首先利用双阴极等离子溅射沉积Ta层,工艺参数如下:靶材电压500~650V,工件电压250~300V,靶材与工件间距10~20 mm,工作气压35Pa,沉积温度450~850℃;溅射时间为10-20min,获得100-200nm厚的Ta层;

b. 然后进行离子氧化,工艺参数如下: 氧化电压650~850V,氧化温度450~600℃,工作气压35Pa,氧分压0.1-1 Pa,离子氧化为5-10min;

c.利用双阴极等离子溅射沉积Au或Mg层,工艺参数如下:靶材电压400~650V,工件电压200~250V,靶材与工件间距10~20 mm,工作气压35Pa,沉积温度250~450℃;溅射时间为5-10min,获得10-20nm厚的Au或Mg层,重复a-c步骤30次以上获得厚度5微米以上的叠层涂层; 

d.溅射的靶材的种类:Au和Mg中的一种以及纯T a靶;

e. 工件材料的种类:316L不锈钢。

所述步骤a中靶材电压600V,工件电压280V,靶材与工件间距15 mm,工作气压35Pa,沉积温度800℃;溅射时间为15min,获得200nm厚的Ta层。

所述步骤b中工作电压800V,氧化温度500℃,工作气压35Pa,氧分压0.5Pa,离子氧化为8min。

所述步骤c中靶材电压600V,工件电压220V,靶材与工件间距15 mm,工作气压35Pa,沉积温度400℃;溅射时间为8min,获得20nm厚的Au或Mg层。

有益效果:

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