[发明专利]一种存储介质材料及其制备方法和数据的存储方法有效
| 申请号： | 201210133753.0 | 申请日： | 2012-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN103377698A | 公开（公告）日： | 2013-10-30 |
| 发明（设计）人： | 王锐;王圣楠;王小伟;裘晓辉 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | G11C13/02 | 分类号： | G11C13/02 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 王浩然;周建秋 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 存储 介质 材料 及其 制备 方法 数据 | ||
1.一种存储介质材料，其特征在于，该存储介质材料包括依次层叠的基底、聚合物层和石墨层，所述石墨层的厚度不大于10纳米。
2.根据权利要求1所述的存储介质材料，其中，所述石墨层的厚度为0.35-2纳米。
3.根据权利要求1或2所述的存储介质材料，其中，所述基底的厚度为0.3-1毫米；优选地，所述基底为硅片、氮化硅片、金属薄膜和塑料薄膜中的一种或多种。
4.根据权利要求1或2所述的存储介质材料，其中，所述聚合物层的厚度为0.05-1微米；优选地，所述聚合物层中的聚合物的杨氏模量为1-5GPa；更优选地，所述聚合物选自聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯和聚对苯二甲酸乙二醇酯中的一种或多种。
5.权利要求1中所述的存储介质材料的制备方法，该方法包括在基底上依次形成聚合物层和石墨层，所述石墨层的厚度不大于10纳米。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其中，形成聚合物层的方法包括将含有聚合物的溶液涂覆在基底上并干燥；优选地，所述聚合物的用量使得聚合物层的厚度为0.05-1微米；优选地，所述聚合物的杨氏模量为1-5GPa；更优选地，所述聚合物选自聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯和聚对苯二甲酸乙二醇酯中的一种或多种。
7.根据权利要求5或6所述的制备方法，其中，形成石墨层的方法为微机械剥离法；优选地，所述微机械剥离法为采用透明胶带均匀粘取石墨粉末，并将该透明胶带的粘有石墨粉末的一侧与聚合物层紧密贴合、移除透明胶带，所述石墨粉末的用量使得在聚合物层上形成厚度不大于10纳米的石墨层；优选形成厚度为0.35-2纳米的石墨层。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其中，相对于1m2的透明胶带，所述石墨粉末的用量为5-20mg，优选为5-10mg；更优选地，所述石墨粉末的颗粒直径为1-3毫米。
9.一种数据的存储方法，该方法包括采用探针将数据刻录在权利要求1-4中任意一项所述的存储介质材料上。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述探针为单晶硅材料探针。
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