[发明专利]紫外光辅助的表面改性方法及具有由此方法形成的表面的制品

权利要求书

1.一种聚合物材料表面的改性方法，该方法包括通过光敏基团X在紫外光辐照下发生光化学反应而将功能基团L引入聚合物材料P的表面，其中所述光敏基团X含有至少一个氧杂蒽酮单元，

其中所述功能基团L选自-COOH、-COOR’、-COO^-M⁺、-SO₃H、-SO₃R’、-SO₃^-M⁺、-COX、-CONHNH₂、-NHCONHNH₂、-NHCSNHNH₂、-CN、-CHO、-COR’、-OH、-SH、-SSR’、氨基、铵盐基团、肼基、-OR’、-SR’、环氧基团、-X、-NO₂、-R’、-R’X_n，R’表示烃基，M⁺表示单价正离子或NH₄⁺，X表示卤原子，n≤（2×R’中的碳原子数+1）；和/或所述功能基团L源自磷酸胆碱、杂环分子、金属络合物、茶碱、鎓盐、糖、抗生素、维生素、毒素、除草剂、杀虫剂、类固醇、多肽、核苷、多肽核酸、半抗原，

其中在聚合物材料P的表面上引入分子X-L和/或X-S-L，其中X为含有至少一个氧杂蒽酮单元的光敏基团，L为功能基团，并且S为连接链，

其中所述方法包括通过光化学反应将光敏基团X固定到聚合物材料P表面，形成P-X，然后任选地通过光化学反应或热化学反应将连接链S连接至所述光敏基团X形成P-X-S，之后通过光化学反应或热化学反应使得功能基团L与已被固定到聚合物材料P表面的任选连接有连接链S的光敏基团X连接，从而将所述分子X-L或X-S-L引入聚合物材料P的表面，形成P-X-L或P-X-S-L。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述光敏基团X源自以下物质：取代或未取代的单氧杂蒽酮、取代或未取代的稠合环二氧杂蒽酮、取代或未取代的联二氧杂蒽酮和取代或未取代的低聚氧杂蒽酮。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述光敏基团X源自取代或未取代的单氧杂蒽酮。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述光敏基团X源自式I的取代单氧杂蒽酮，

其中R各自独立地表示位于相应环上的取代基，a和b分别独立地为选自0-3的整数，并且a+b≥1。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述取代基R选自热敏官能团、取代或未取代和/或被官能团间隔的链烃基、相对于单氧杂蒽酮单元的取代或未取代的独立环结构、和与单氧杂蒽酮单元上的环原子一起形成的取代或未取代的稠环结构，其中所述热敏官能团选自羧基、羟基、胺基、巯基、磺酸基、卤原子、酯基、酰卤、酰肼、氨基脲、氨基硫脲、醛、酮。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述链烃基为C_1-18链烃基。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述链烃基为C_1-8烷基或C_2-8不饱和烃基。

8.根据权利要求6所述的方法，其中所述链烃基为C_1-5烷基或C_2-5不饱和烃基。

9.根据权利要求6所述的方法，其中所述链烃基被选自以下的一个或多个官能团取代或者被选自以下的一个或多个官能团间隔：羧基、羟基、胺基、亚胺基、巯基、磺酸基、卤原子、酯官能团、酰卤、酰肼、氨基脲、氨基硫脲、醛、酮、环氧、醚、硫醚、羰基、硫酰、亚硫酰、硝基、氰基、磷酰官能团、呋喃官能团、糖官能团、酰官能团。

10.根据权利要求5所述的方法，其中所述环结构中的环为具有5-6个环原子的饱和环烃、不饱和环烃、饱和杂环烃、不饱和杂环烃。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述环结构中的环原子含有一个或多个选自O、N、S的杂原子。