[发明专利]一种立式原子层沉积设备

说明书

技术领域

本发明涉及原子层沉积设备技术领域，特别涉及一种立式原子层沉积设备。

背景技术

目前，光伏产业面临的一个主要问题是在增加转换效率的同时保证工业化生产的经济性和技术可行性。通过原子层沉积设备对晶体硅太阳能电池硅片进行表面钝化已经被证明是一种有效的提高转换效率的方法。现有的原子层沉积设备均采用卧式方案，其缺点如下：

1）现有原子层沉积设备中，送片机构通常设置于主腔室内，这种原子层沉积设备在长期使用后，由于送片机构的导轨磨损而残留在腔室内的金属碎末会污染腔室环境，影响成片质量；

2）整个生产过程需要的横向操作空间较大。

发明内容

为了解决上述问题，本发明提出了一种送片机构设置于主腔室之外，从而避免由于送片机构的导轨磨损产生金属碎末而对成片质量造成影响，并且，充分利用垂直空间，从而占地面积小的立式原子层沉积设备。

本发明提供的立式原子层沉积设备包括主腔室和送片机构，所述送片机构设置于所述主腔室的外部，所述送片机构将硅片从所述主腔室外部送入到所述主腔室内部。

作为优选，所述送片机构与所述主腔室的相对位置关系是竖直的。

作为优选，所述送片机构设置于所述主腔室之上。

作为优选，所述送片机构包括电机和导向机构，硅片置于所述导向机构上，在所述电机的作用下，所述导向机构推动硅片从所述主腔室外部送入到所述主腔室内部。

作为优选，所述导向机构包括直线导轨、导向光杆和硅片固定机构，所述直线导轨与所述电机电性连接，所述硅片固定机构的一端套设于所述直线导轨上，所述硅片固定机构的另一端套设于所述导向光杆上，在所述电机的作用下，所述硅片固定机构能够在所述直线导轨和所述导向光杆的引导下向所述主腔室运动，从而，使硅片从所述主腔室外部送入到所述主腔室内部。

作为优选，所述硅片固定机构包括花篮架固定架、花篮连接座、硅片防滑机构和放片架，所述放片架通过连接板固定连接于所述花篮固定架上，所述花篮固定架固定连接于所述花篮连接座，所述花篮连接座的一端套设于所述直线导轨上，所述花篮连接座的另一端套设于所述导向光杆上，所述硅片防滑机构的一端固定连接于所述连接板上，所述硅片防滑机构的另一端伸入到所述主腔室内，硅片中心穿设于所述硅片防滑机构上，硅片边缘抵顶于所述放片架内壁。

作为优选，所述防滑机构是防滑板。

本发明提供的立式原子层沉积设备的送片机构设置于所述主腔室之外，从而避免了由于送片机构的导轨磨损产生金属碎末而对成片质量造成影响。

附图说明

图1为本发明实施例提供的立式原子层沉积设备的整体结构示意图。

具体实施方式

为了深入了解本发明，下面结合附图及具体实施例对本发明进行详细说明。

参见附图1，本发明提供的立式原子层沉积设备包括主腔室1和送片机构，送片机构设置于主腔室1的外部，送片机构将硅片2从主腔室1外部送入到主腔室1内部。

其中，作为送片机构设置于主腔室1的外部的一种具体的实现方式，送片机构与主腔室1的相对位置关系可以是竖直的，以充分利用垂直空间，从而占地面积小。

其中，作为送片机构与主腔室1的相对位置关系垂直的一种具体的实现方式，送片机构设置于主腔室1之上。

其中，作为送片机构的一种具体的实现方式，送片机构包括电机3和导向机构，硅片2置于导向机构上，在电机3的作用下，导向机构推动硅片2从主腔室1外部送入到主腔室1内部。

其中，作为导向机构的一种具体的实现方式，导向机构包括直线导轨4、导向光杆5和硅片固定机构，直线导轨4与电机3电性连接，硅片固定机构的一端套设于直线导轨4上，硅片固定机构的另一端套设于导向光杆5上，在电机3的作用下，硅片固定机构能够在直线导轨4和导向光杆5的引导下向主腔室1运动，从而，使硅片2从主腔室1外部送入到主腔室1内部。

其中，作为硅片固定机构的一种具体的实现方式，硅片固定机构包括花篮架固定架6、花篮连接座7、硅片防滑机构和放片架8，放片架8通过连接板10固定连接于花篮固定架6上，花篮固定架6固定连接于花篮连接座7，花篮连接座7的一端套设于直线导轨4上，花篮连接座7的另一端套设于导向光杆5上，硅片防滑机构的一端固定连接于连接板10上，硅片防滑机构的另一端伸入到主腔室1内，硅片2中心穿设于硅片防滑机构上，硅片2边缘抵顶于放片架8内壁。

其中，作为防滑机构的一种具体的实现方式，防滑机构是防滑板9。