[发明专利]一种集成光学用玻璃基片材料及其制备方法有效
| 申请号： | 201210138056.4 | 申请日： | 2012-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN102633434A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 郝寅雷;王毅强;商惠琴;王明华;杨建义 | 申请（专利权）人： | 上海光芯集成光学股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C3/093 | 分类号： | C03C3/093 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 蒋亮珠 |
| 地址： | 200072 上海市闸*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 集成 光学 玻璃 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种集成光学用玻璃基片材料，其特征在于，包括SiO2(65-76)wt％，B2O3(0-5)wt％，Al2O3(0.4-3)wt％，ZnO(0-5)wt％，MgO(2-5)wt％，CaO(4-8)wt％，Na2O(5-20)wt％，K2O(0-10)wt％，其他(0-1.5)wt％。
2.根据权利要求1所述的一种集成光学用玻璃基片材料，其特征在于，所述的集成光学用玻璃基片材料包括：SiO2(68-72)wt％，B2O3(1-2)wt％，Al2O3(1-2)wt％，ZnO(1-3)wt％，MgO(3-4)wt％，CaO(4-6)wt％，Na2O(10-15)wt％，K2O(4-5)wt％，其他(0.5-1)wt％。
3.根据权利要求1或2所述的一种集成光学用玻璃基片材料，其特征在于，所述的其他包括As2O3、Sb2O3或CeO2。
4.根据权利要求1或2所述的一种集成光学用玻璃基片材料，其特征在于，所述的集成光学用玻璃基片材料包括：SiO270wt％，B2O32wt％，Al2O32wt％，ZnO2wt％，MgO4wt％，CaO4.5wt％，Na2O11wt％，K2O4wt％，As2O30.5wt％。
5.一种如权利要求1所述的集成光学用玻璃基片材料的制备方法，其特征在于，按配方称取原料，置于铂坩锅熔融混合，并经1200℃-1800℃高温澄清、成型、退火后，切割呈3-6英寸、厚1-1.5mm的玻璃基片。
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