[发明专利]柱体工件磁流变抛光系统无效
申请号: | 201210142221.3 | 申请日: | 2012-05-10 |
公开(公告)号: | CN102632434A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 尹更新;李小红;李新忠;张瑞州;张利平;张占立;邓四二 | 申请(专利权)人: | 河南科技大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 李宗虎 |
地址: | 471003 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 柱体 工件 流变 抛光 系统 | ||
1.柱体工件磁流变抛光系统,其特征在于:主要由数控主轴装置、抛光主体、磁场发生装置和液体循环装置组成,抛光主体的一端顶在顶尖轴(2)上,另一端与数控主轴(1)连接,由数控主轴带动抛光主体做旋转运动,所述的抛光主体由旋转体Ⅰ(3)、柱体工件(4)和旋转体Ⅱ(5)组成,柱体工件(4)位于旋转体Ⅰ(3)和旋转体Ⅱ(5)之间,柱体工件的两端通过粘接体与旋转体Ⅰ和旋转体Ⅱ相连接,旋转体Ⅰ(3)、柱体工件(4)和旋转体Ⅱ(5)同轴设置;所述的磁场发生装置位于柱体工件的一侧保证柱体工件母线处各点所受的磁场力相同,所述的液体循环装置主要循环抛光池(6)、设置在循环抛光池上的液体回流管(7)和循环抛光池内的搅拌装置组成,在循环抛光池(6)内装有磁流变抛光液,启动循环抛光池(6)内的搅拌装置进行混合搅拌磁流变抛光液,数控主轴(1)带动抛光主体运动至循环抛光池(6)上方,启动磁场发生装置,保证柱体工件母线处各点所受的磁场力相同;下压携带抛光主体的数控主轴,使得柱体工件(4)与磁流变抛光液接触;启动液体循环装置使液体沿同一方向流动,启动主轴电机,在磁场的作用下使磁流变液体变成半固体状态的柔性抛光磨头,按照设定程序进行抛光,最终达到要求的加工精度。
2.根据权利要求1所述的柱体工件磁流变抛光系统,其特征在于:所述的循环抛光池(6)内还设有温控装置。
3.根据权利要求2所述的柱体工件磁流变抛光系统,其特征在于:所述的液体回流管(7)的两端管口分别位于循环抛光池的两侧,两端管口分别与循环抛光池(6)相连通,由驱动力带动磁流变抛光液沿液体回流管并朝向同一方向循环流动。
4.根据权利要求3所述的柱体工件磁流变抛光系统,其特征在于:所述的液体回流管(7)的两端管口,其中一端管口高于另一端管口,在位于低端的管口内设有驱动叶片,由外部电机带动驱动叶片旋转,磁流变抛光液沿高端管口进入液体回流管经低端管口进入循环抛光池内,磁流变抛光液依次流动。
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