[发明专利]一种适用于无掩模光刻机的对准方法

权利要求书

1.一种适用于无掩模光刻机的对准方法，其特征在于：所述的无掩模光刻机的对准方法是硅片上的标记（6）经第一转向棱镜（1）和第二转向棱镜（3）转向后通过聚光镜（4）成像在光电耦合成像器件（5）的成像靶面上，经过图像处理确定采集到的标记相对载物台（9）的坐标位置一，通过承片台（7）的旋转和工件台（8）的移动能够采集到除标记（6）以外的其他标记并确定其相对载物台坐标的位置二，由于采集到的标记图像相对硅片坐标的位置是已知的，能够建立载物台坐标系同硅片坐标系之间的变换关系，应用坐标变换公式推导出所放硅片同首次曝光位置的偏移量及旋转角度，通过工件台平移及载片台旋转补偿实现套刻对准；其具体操作步骤包括：

步骤S1：工件台平移到一个预定的标记位置，光电耦合成像器采集第一个对准标记，并计算其相对于载物台的坐标；

步骤S2：工件台平移到另一个预定的标记位置，光电耦合成像器采集第二个对准标记，并计算其相对于载物台的坐标；

步骤S3：根据计算求得的两个对准标记在载物台中的位置，建立硅片坐标系同载物台坐标系之间的坐标变换方程，推导出所放硅片同首次曝光位置的偏移量及旋转角度，如果求解失败，则重复步骤S1；

步骤S4：应用求得的偏移量替换上次求得的偏移量，如果此次为第一次求得，则替换预设的偏移量值；

步骤S5：按得到的旋转角度θ转动硅片台，之后重复步骤S1，直至旋转角度θ小于设定的阈值时为止;其中设定的阈值为系统管理员根据具体需要设定的。

2.根据权利要求1所述的一种适用于无掩模光刻机的对准方法，其特征在于所述的光电耦合成像器件同载物台的位置是相对固定的，其中光电耦合成像器件是CCD相机或四象限探测器。

3.根据权利要求1所述的一种适用于无掩模光刻机的对准方法，其特征在于所述的转向棱镜为一个或多个，其能够将硅片上的对准标记成像在光电耦合成像器件上。

4.根据权利要求1所述的一种适用于无掩模光刻机的的对准方法，其特征在于所述的方法步骤S1中预定的一个标记位置是由对准标记在硅片坐标系中的坐标位置和硅片的坐标零位同载物台的坐标零位之间的偏移量所决定的，该对准标记是硅片上的任一个对准标记。

5.根据权利要求1所述的一种适用于无掩模光刻机的的对准方法，其特征在于所述的方法步骤S2中预定的另一标记位置是由对准标记在硅片坐标系中的坐标位置和硅片的坐标零位同载物台的坐标零位之间的偏移量所决定的，该对准标记是除了步骤S1中选定的对准标记外的任何一个硅片上的对准标记。

6.根据权利要求1所述的一种适用于无掩模光刻机的的对准方法，其特征在于所述的方法步骤S5中指定的最小转角是按操作者的要求提供接口，由操作者个人设定。