[发明专利]低温泵及其制造方法

说明书

本申请主张基于2011年5月12日申请的日本专利申请第2011-107669号的优先权。其申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。

技术领域

本发明涉及一种低温泵及其制造方法。

背景技术

低温泵为通过冷凝或吸附在被冷却成超低温的低温板上捕捉气体分子来进行排气的真空泵。低温泵一般用作实现半导体电路制造工艺等中要求的清洁的真空环境。低温泵的应用中的1个例如如离子注入工序中，例如氢等非冷凝性气体有时占应排出气体的一大半。非冷凝性气体最初能够通过吸附在冷却成超低温的吸附区域来进行排气。

专利文献1：日本特开平1-92591号公报

专利文献2：日本特开昭60-13992号公报

专利文献3：日本特表2008-514849号公报

专利文献4：日本特开2009-162074号公报

发明内容

本发明的一种形态的例示性目的之一为提供一种用于对氢等非冷凝性气体进行高速排气的低温泵及用于制造这种低温泵的方法。

本发明的一种形态的低温泵具备：制冷机，其包含用于提供第1冷却温度的第1冷却台及用于提供低于该第1冷却温度且在非冷凝性气体的吸附中使用的第2冷却温度的第2冷却台；放射护罩，其包含形成接收气体的开口的护罩前端，该放射护罩热连接于第1冷却台并包围第2冷却台；及低温板组件，其热连接于第2冷却台，在其外周部与放射护罩之间形成朝向所述开口的开放空间，能够从护罩前端观察到该低温板组件的至少一部分。低温板组件包含：顶板，面向所述开口：及中间板，包含朝向所述开口的板前表面，且相对于顶板配设在所述开口的相反侧，与中间板的板前表面对置的邻接的低温板和该板前表面之间形成与所述开放空间连接的开放部分，该开放部分其深度大于该邻接的低温板和该板前表面之间的间隔，所述中间板在板前表面具有用于非冷凝性气体的吸附区域，该吸附区域形成在通过从所述放射护罩前端至所述邻接的低温板的末端的视线与所述板前表面的交叉确定的边界的内侧。

本发明的一种形态的低温泵具备放射护罩及低温板组件，所述低温板组件包含在该放射护罩内从近前侧向里面排列且分别具有朝向该放射护罩的开口的前表面和朝向该开口的相反侧的背面的多个低温板的排列，且在该多个低温板的外周部与所述放射护罩之间形成朝向所述开口的开放空间。所述低温板组件中，所述多个低温板的前表面及背面的总计面积的至少70%被能够吸附氢的吸附剂覆盖，所述低温泵具有至少30%的氢捕捉概率，所述吸附剂容纳在所述多个低温板各自的背面和与该低温板的里面邻接的低温板的前表面之间，能够从所述开口观察到的吸附剂面积与所述多个低温板的吸附剂总面积之比即吸附剂可见率小于7%。

本发明的一种形态的低温泵具备被向低温泵开口开放的低温泵内部开放空间包围的多个低温吸附板的排列及包围该低温泵内部开放空间的放射护罩。所述多个低温吸附板的至少1个包含向低温泵内部开放空间突出且朝向放射护罩的板末端，该板末端具有吸附剂脱落的区域。

本发明的另一种形态为低温泵的制造方法。该方法包含以下工序：对低温板的基材进行掩蔽；及在未被掩蔽的所述基材的表面粘结吸附剂。

发明效果

根据本发明提供一种用于对氢等非冷凝性气体进行高速排气的低温泵及用于制造这种低温泵的方法。

附图说明

图1是示意地表示本发明的一实施方式所涉及的离子注入装置及低温泵的图。

图2是示意地表示本发明的一实施方式所涉及的低温泵的截面图。

图3是示意地表示优选的一实施方式所涉及的低温泵的顶视图。

图4是示意地表示优选的一实施方式所涉及的低温泵的截面图。

图5是用于有关图4所示的低温泵说明形成在低温板上的吸附区域的图。

图6是有关图4及图5所示的低温泵表示低温板的板前表面的顶视图。

图7是表示图6所示的低温板的背面的图。

图8是表示本发明的一实施方式所涉及的低温板组件的吸附剂脱落率或包覆率的一例的表格。

图9是表示本发明的一实施方式所涉及的低温板组件的吸附剂脱落率或包覆率的一例的表格。

图10是有关本发明的一实施方式表示通过再生的低温泵的氢排气速度变化的图。

图11是用于说明本发明的一实施方式所涉及的低温泵的制造方法的流程图。

图12是用于说明用来制造本发明的一实施方式所涉及的低温泵的方法的流程图。