[发明专利]光放大装置及激光加工装置有效
申请号: | 201210146881.9 | 申请日: | 2012-05-11 |
公开(公告)号: | CN102801088A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 大垣龙男 | 申请(专利权)人: | 欧姆龙株式会社 |
主分类号: | H01S3/067 | 分类号: | H01S3/067;H01S3/23;B23K26/00;B23K26/06 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 聂宁乐;向勇 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 放大 装置 激光 加工 | ||
1.一种光放大装置,其特征在于,
具有:
光放大光纤,其通过激发光来放大种子光;
种子光源,其在发光期间生成多次脉冲状的所述种子光;
激发光源,其在刚刚进入所述发光期间之前的非发光期间生成具有第一能级的功率的所述激发光,在所述发光期间生成具有比所述第一能级高的第二能级的功率的所述激发光;
检测器,其检测从所述光放大光纤输出的输出光脉冲的功率;
控制部,其基于所述检测器的检测值,以使在所述发光期间内生成的最初的输出光脉冲和最后的输出光脉冲之间的功率相同的方式,控制所述非发光期间的所述激发光的功率。
2.根据权利要求1记载的光放大装置,其特征在于,
所述控制部,在起动所述光放大装置时,按照每个所述输出光脉冲的预先设定的条件,控制所述非发光期间的所述激发光的功率,由此获取与特定激发光的功率相关的数据,该特定激发光是指,用于使所述最初的输出光脉冲和所述最后的输出光脉冲之间的功率相同的所述激发光;
所述光放大装置还具有存储部,在该存储部中,与所述输出光脉冲的所述预先设定的条件相关联对应地存储所述数据。
3.根据权利要求2记载的光放大装置,其特征在于,
在所述光放大装置运转时,所述控制部基于存储在所述存储部中的数据,来设定所述非发光期间的所述激发光的功率。
4.根据权利要求3记载的光放大装置,其特征在于,
所述激发光源是半导体激光器;
所述数据是所述半导体激光器的偏置电流的数据;
在变更了所述输出光脉冲的条件的情况下,所述控制部将与变更前的条件相对应的所述偏置电流的数据的变动,反应到与变更后的条件相对应的所述偏置电流的数据中。
5.根据权利要求2记载的光放大装置,其特征在于,
还具有光闸,该光闸用于防止使所述输出光脉冲输出到所述光放大装置的外部;
所述控制部,在关闭所述光闸的状态下,获取在起动所述光放大装置时的所述数据。
6.一种激光加工装置,其特征在于,
具有权利要求1~5中的任一项记载的光放大装置。
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