[发明专利]一种新型双面导电膜制作工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种透光率较高的新型双面导电膜，该导电膜可广泛应用在平面显示的制造领域中。

背景技术

近年来平面显示领域发展很快，尤其是手机触摸屏，平板电脑触摸屏等多种电子产品的按键方式由传统的机械按键向触控按键方式转变，其市场需求呈现上升趋势，ITO导电膜作为触摸屏制造中的重要原材料，处于供不应求的状态。

过去，触摸屏制造工艺需要上线和下线两层单面导电ITO膜，在企业工艺不稳定期，其产品的印刷和贴合良率较低，而ITO膜又是价格相对高昂的电子产品，大量的报废，就压低了企业的利润，甚至有企业亏损。即使有些企业的良率较高，两层单面导电ITO膜的使用，也使其利润空间不高。

目前为了提高利润压低成本，有些企业在寻找新材料，希望可以替代ITO膜；也有些企业在寻找新工艺，以期待在不改变触摸屏功能的情况下寻求突破。

发明内容

为了克服上述缺陷，满足市场需求，本发明目的为在单层柔性透明基材两个面上完成导电膜的制作工艺。

为了达到上述目的，本发明采用如下技术方案：一种新型双面导电膜制作工艺，该膜的结构为该双面导电膜的中间层为柔性透明薄膜，自柔性透明薄膜的上表面依次向上有加硬层、粘结层、高折射率介质层、低折射率介质层、氧化铟锡透明导电层；自柔性透明薄膜的下表面依次向下有加硬层、粘结层、高折射率介质层、低折射率介质层、氧化铟锡透明导电层，其制作工艺的如下：

柔性透明薄膜，为聚对苯二甲酸乙二醇酯，柔性透明薄膜是一种折射率为1.4-1.5的柔性材料；

加硬层是对柔性透明薄膜的表面硬化处理层，是以涂布的方式在柔性透明薄膜的上下两个表面完成加硬层的制作；

粘结层以磁控溅射的方式溅射到加硬层表面的，镀制粘结层的主要目的是使加硬层和高折射率介质层更牢固的贴合在一起；

高折射率介质层，一种折射率介于1.8-2.5之间的高折射率材料；

低折射率介质层，一种折射率介于1.4-1.8的低折射率材料；

氧化铟锡透明导电层是通过磁控溅射的方法将铟锡氧化物从靶材表面轰击出溅射到低折射率介质层上，氧化铟锡陶瓷靶材中In₂O₃和SnO₂按照一定的重量份配比掺杂在一起，配比关系在99/1-90/10之间选择。

粘结层的材料为Si₃N₄、SiO、SiO₂中的一种。

高折射率介质层的高折射率材料优选为Nb₂O₅。

低折射率介质层的低折射率材料优选为SiO₂。

氧化铟锡陶瓷靶材中In₂O₃和SnO₂的重量份配比优选为97/3、95/5、90/10三种的一种。

本发明的有益效果：

本发明制备出来的产品可见光透光率达到85%以上，两个面的方阻150℃高温退火后，在（150-300）Ω/□之间，两个面的方阻可以相同均为150Ω/□、200Ω/□或者260Ω/□等，比如一面为150Ω/□另一面为200Ω/□，其方阻均匀性为±20Ω/□，色差△R即有ITO层和没有ITO层的可见光反射率差为0.7%±0.3%，满足现今市场对ITO膜的要求。

附图说明

图1为本发明中双面导电膜的结构示意图。

图2为本发明的工艺设备示意图。

具体实施方式

    为了详细叙述本发明专利的特点，优势和工作原理，下面结合说明书附图和具体实施方式对本发明做进一步的说明，但本发明所保护的范围并不局限于此。

一种新型双面导电膜制作工艺，该膜的结构为该双面导电膜的中间层为柔性透明薄膜1，自柔性透明薄膜1的上表面依次向上有加硬层2、粘结层3、高折射率介质层4、低折射率介质层5、氧化铟锡透明导电层6；自柔性透明薄膜1的下表面依次向下有加硬层2、粘结层3、高折射率介质层4、低折射率介质层5、氧化铟锡透明导电层6，其制作工艺如下：

柔性透明薄膜1，为聚对苯二甲酸乙二醇酯，柔性透明薄膜1是一种折射率为1.4-1.5的柔性材料；

加硬层2是对柔性透明薄膜1的表面硬化处理层，是以涂布的方式在柔性透明薄膜1的上下两个表面完成加硬层2的制作；