[发明专利]一种高耐磨碳化硼涂层及其制备方法有效
申请号: | 201210148858.3 | 申请日: | 2012-05-14 |
公开(公告)号: | CN103422048A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 朱慧颖;牛亚然;林初城;黄利平;郑学斌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C23C4/12 | 分类号: | C23C4/12;C23C4/04 |
代理公司: | 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 | 代理人: | 何葆芳 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 耐磨 碳化 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种高耐磨碳化硼涂层,其特征在于:所述涂层是由碳化硼硬质相和富镍连续相组成的B4C-Ni复合涂层,且所述富镍连续相中含有单质Ni、Ni-B化合物和Ni-C化合物。
2.根据权利要求1所述的高耐磨碳化硼涂层,其特征在于:所述高耐磨碳化硼涂层中的镍含量为10~20vol%。
3.根据权利要求2所述的高耐磨碳化硼涂层,其特征在于:所述高耐磨碳化硼涂层的厚度为200~500μm。
4.一种权利要求1所述的高耐磨碳化硼涂层的制备方法,其特征在于:采用真空等离子体喷涂技术在金属基材上喷涂B4C-Ni复合粉体。
5.根据权利要求4所述的高耐磨碳化硼涂层的制备方法,其特征在于:所述的金属基材为不锈钢。
6.根据权利要求4所述的高耐磨碳化硼涂层的制备方法,其特征在于,进行真空等离子体喷涂的工艺参数如下:等离子体气体Ar流量为35~50标准升/分钟;等离子体气体H2流量为8~18标准升/分钟;粉末载气Ar流量为2~4标准升/分钟;喷涂距离为120~250毫米;喷涂电流为600~700安培;喷涂压力为100~700毫巴;送料速率为15~30转/分钟。
7.根据权利要求4所述的高耐磨碳化硼涂层的制备方法,其特征在于:所述的B4C-Ni复合粉体采用化学镀法制备而得。
8.根据权利要求7所述的高耐磨碳化硼涂层的制备方法,其特征在于,采用化学镀法制备B4C-Ni复合粉体的工艺包括如下步骤:
a)配制化学镀镍溶液;
b)加热上述的化学镀镍溶液至83℃,加入碳化硼粉体,搅拌;
c)保温在85℃进行化学镀;
d)施镀1~3小时后,过滤,水洗滤渣至中性,干燥,即得B4C-Ni复合粉体。
9.根据权利要求8所述的高耐磨碳化硼涂层的制备方法,其特征在于:所述的化学镀镍溶液是由浓度为0.16mol/L的NiSO4、浓度为0.32mol/L的NaH2PO4、浓度为0.75mol/L的NH4Cl及浓度为0.85mol/L的Na3C6H5O7水溶液组成,化学镀镍溶液的pH值为6.5。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆