[发明专利]锰钛共掺杂氟镁锗酸盐发光材料、制备方法及其应用有效
申请号: | 201210151202.7 | 申请日: | 2012-05-16 |
公开(公告)号: | CN103421496A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 周明杰;王平;陈吉星;梁禄生 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司 |
主分类号: | C09K11/66 | 分类号: | C09K11/66;H05B33/14 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 锰钛共 掺杂 氟镁锗酸盐 发光 材料 制备 方法 及其 应用 | ||
1.一种锰钛共掺杂氟镁锗酸盐发光材料,其特征在于:其化学式为aMgO-bMgF2-cGeO2:dMn4+,eTi4+,其中aMgO-bMgF2-cGeO2是基质,锰元素和钛元素是激活元素,且a为1~6,b为0.05~2,c为0.5~3,d为0.01~0.05,e为0.005~0.03。
2.根据权利要求1所述的锰钛共掺杂氟镁锗酸盐发光材料,其特征在于:所述a为3.5,b为0.5,c为1,d为0.03,e为0.01。
3.一种锰钛共掺杂氟镁锗酸盐发光材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
根据aMgO-bMgF2-cGeO2:dMn4+,eTi4+各元素的化学计量比称取MgO、MgF2、GeO2、MnO2和TiO2粉体并混合均匀,其中a为1~6,b为0.05~2,c为0.5~3,d为0.01~0.05,e为0.005~0.03;及
将混合均匀的粉体在900℃~1300℃下烧结0.5小时~5小时即得到化学式为aMgO-bMgF2-cGeO2:dMn4+,eTi4+的锰钛共掺杂氟镁锗酸盐发光材料。
4.一种锰钛共掺杂氟镁锗酸盐发光薄膜,其特征在于,该锰钛共掺杂氟镁锗酸盐发光薄膜的材料的化学通式为aMgO-bMgF2-cGeO2:dMn4+,eTi4+,其中aMgO-bMgF2-cGeO2是基质,锰元素和钛元素是激活元素,且a为1~6,b为0.05~2,c为0.5~3,d为0.01~0.05,e为0.005~0.03。
5.根据权利要求4所述的锰钛共掺杂氟镁锗酸盐发光薄膜,其特征在于:所述a为3.5,b为0.5,c为1,d为0.03,e为0.01。
6.一种锰钛共掺杂氟镁锗酸盐发光薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
根据aMgO-bMgF2-cGeO2:dMn4+,eTi4+各元素的化学计量比称取MgO、MgF2、GeO2、MnO2和TiO2粉体并混合均匀在900℃~1300℃下烧结0.5小时~5小时制成靶材,其中a为1~6,b为0.05~2,c为0.5~3,d为0.01~0.05,e为0.005~0.03;
将所述靶材以及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体,并将真空腔体的真空度设置为1.0×10-3Pa~1.0×10-5Pa;及
调整磁控溅射镀膜工艺参数为:基靶间距为45mm~95mm,磁控溅射工作压强0.2Pa~4Pa,工作气体的流量为10sccm~35sccm,衬底温度为250℃~750℃,接着进行制膜,得到化学式为aMgO-bMgF2-cGeO2:dMn4+,eTi4+的锰钛共掺杂氟镁锗酸盐发光薄膜。
7.根据权利要求6所述的锰钛共掺杂氟镁锗酸盐发光薄膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法进一步包括退火处理,该步骤为将制得锰钛共掺杂氟镁锗酸盐发光薄膜在0.01Pa真空炉中退火1~3h,退火温度为500℃~800℃,。
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