[发明专利]带密室的建筑结构有效

专利信息
申请号: 201210151723.2 申请日: 2012-05-16
公开(公告)号: CN102704711A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 马根昌 申请(专利权)人: 苏州市伦琴工业设计有限公司
主分类号: E04H1/06 分类号: E04H1/06;E06B3/70
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州市工业*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 密室 建筑结构
【说明书】:

 

技术领域

发明涉及建筑结构领域,具体地,是一种带有密室的建筑楼层平面格局。

 

背景技术

在商业活动中,有时需要召开秘密会议,此时会议地点通常不希望公开,越隐蔽越好,另外,对于技术机密的储藏,亦需要考虑安全隐秘的场所,因此,一些办公楼层中会构造密室。然而,目前的密室有一部分直接采用普通房间,仅对其采取防盗措施,如安装防盗门、密码锁等等,该种密室一者安全设施成本较大,二者仍然挡不住暴力摧毁;另外一部分密室则通过隐藏密室的入口来实现隐秘效果,该种密室主要有两种,一种是地下室,其建造成本较大;另一种是与普通房间并列的房间,通过暗门进入,然该种暗门的布置要求很高,通常需要花费很大的装饰成本,并且,在进入密室后,使暗门外部恢复原貌需要花费很多工夫,因此使用很不方便。

 

发明内容

针对上述问题,本发明的目的在于提供一种带密室的建筑结构,该建筑结构中的密室不仅隐蔽性好,难以发现,并且成本低,使用方便。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:该带密室的建筑结构包括一个以上并列的办公室,各办公室均设有正门;其中一个办公室的后侧设有一个紧急出口,靠近该紧急出口的各所述办公室的后方设有一个密室,所述密室的入口所在的墙壁与所述紧急出口所在的墙壁相互垂直;所述紧急出口上设有一扇从办公室开向外侧的外推门,所述密室入口设有一扇密室门,且所述外推门推至与紧急出口所在墙壁呈90°~100°时,靠住所述密室入口所在墙壁,并完全遮住所述密室门;所述紧急出口向外延伸一条紧急通道,并在通道的端部设有一扇只能从通道内部开启的安全门;正对所述紧急出口的紧急通道壁上设有引导人员逃向所述安全门的标识。

作为优选,所述密室门的底部距离地面30cm以上,以避免从所述外推门的门底窥见密室门。

作为优选,所述密室门的外门板由矩形石块浮雕板构成,且无外门框和锁孔,通过弹簧实现关阖,以起到掩饰作用。

作为优选,各需要展开秘密会议的所述办公室之间设有互通的旁门,以便于共同进入所述密室进行交流。

本发明的有益效果在于:该带密室的建筑结构在需要进入密室时,首先需要打开紧急出口的外推门,当该外推门打开时,恰好完全遮挡住密室门,且紧急出口所正对的紧急通道壁上,设有引导通向紧急通道出口的所述安全门的标识;另外,所述安全门只能从通道内部开启,因此,外部人员在正常情况下,根本无法发现密室门,该密室不仅建造成本低,并且使用十分方便。

 

附图说明

图1是本带密室的建筑结构实施例一的结构示意图。

图2是实施例一中外推门开启状态下的示意图。

图3是本带密室的建筑结构实施例二的结构示意图。

 

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明:

实施例一

在图1、图2所示的实施例一中,该带密室的建筑结构包括两个并列的办公室1、2,各办公室均设有正门10、20;其中办公室1的后侧设有一个紧急出口,其上设有一扇从办公室1开向外侧外推门11,靠近该紧急出口的办公室2的后方设有一个密室4,所述密室4的入口所在的墙壁与所述紧急出口所在的墙壁相互垂直;所述密室入口设有一扇密室门40,且所述外推门11推至与紧急出口所在墙壁呈90°~100°时,靠住所述密室入口所在墙壁,并完全遮住所述密室门40,其状态如图2所示;所述紧急出口向外延伸一条紧急通道5,并在通道的端部设有一扇只能从通道内部开启的安全门51;正对所述紧急出口的紧急通道5墙壁上设有引导人员逃向所述安全门的标识。

上述带密室的建筑结构,所述密室门40的底部距离地面30cm以上,以避免从所述外推门11的门底窥见密室门40,构造时,可使密室门40的面积为所述外推门11面积的三分之二左右;另外,所述密室门40的外门板可由矩形石块浮雕板构成,且无外门框和锁孔,通过弹簧轴实现关阖,而其内侧可设置插销,从而使密室门40具有良好的掩饰作用。

上述带密室的建筑结构,所述办公室1、2之间设有互通的旁门12,以便于共同进入所述密室4进行交流。

实施例二

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州市伦琴工业设计有限公司,未经苏州市伦琴工业设计有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210151723.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top