[发明专利]一种实验型浸没式投影光刻物镜

权利要求书

1.一种实验用浸没式投影光刻物镜，其特征在于，包括从掩膜板到光刻面同光轴依次排列的第一正透镜L1、第二曼金凹反射镜L2、光阑、第三曼金凸反射镜L3、第四弯月透镜L4、第五弯月透镜L5、第六弯月透镜L6、第七弯月透镜L7、第八平凸透镜L8和第九去离子水层L9，其中：

所述第二曼金凹反射镜L2和第三曼金凸反射镜L3形成Schwarzschild折反结构，用于提高光刻系统的像方数值孔径和保证70pm的工作带宽，其中，所述第二曼金凹反射镜L2前表面的曲率半径为72.5726mm，后表面的曲率半径为51.6399mm，前表面的通光口径为89.9900mm，后表面的通光口径为68.7597mm，厚度为18.7122mm;所述第三曼金凹反射镜L3与第二曼金凹反射镜L2的间隔为36.1248mm，其前表面为平面，后表面的外圈为平面，内圈的凹面镜的曲率半径为9.4858mm，前表面的通光口径为44.0435mm，后表面的外圈通光口径为40.5562mm，内圈凹面镜的通光口径为4.6000mm，平面厚度为5.4702mm，内圈凹面镜厚度为5.1957mm；

所述光阑放置在第二曼金凹反射镜L2的后表面的圆环形平面上，用于消除像方的象散和彗差；

所述第一正透镜L1放置在掩膜板和第二曼金凹反射镜L2之间，用于使该投影光刻物镜的缩小倍率为100倍，且使通过光阑中心的主光线与光轴的角度小于4个毫弧度；

所述第四弯月透镜L4弯向掩膜板，其产生正的匹兹伐场曲用来平衡由Schwarzschild折反结构产生的负匹兹伐场曲；

所述第五弯月透镜L5、第六弯月透镜L6和第七弯月透镜L7组成折射透镜组，三者均弯向光刻面，用于对从第四弯月透镜L4的透射光线进行向下偏折来扩大物镜系统的数值孔径，以及产生的负球差平衡Schwarzschild折反结构产生的正球差；

所述第八弯月透镜L8朝向掩膜板的前表面为10次非球面，朝向光刻面的后表面为平面，用于校正其前方系统产生的高级孔径正球差和负彗差；

所述第九去离子水层L9的厚度为光刻面到第八平凸透镜L8的后表面的距离。

2.如权利要求1所述的一种实验用浸没式投影光刻物镜，其特征在于，所述第四弯月透镜L4与第三曼金凹反射镜L3的间隔为1.9999mm，前表面的曲率半径为-237.7144mm，后表面的曲率半径为-390.1425mm，前表面的通光口径为39.5875mm，后表面的通光口径为36.7787mm，厚度为4.6081mm。

3.如权利要求2所述的一种实验用浸没式投影光刻物镜，其特征在于，所述第五弯月透镜L5与第四弯月透镜L4的间隔为0.8000mm，前表面的曲率半径为26.8055mm，后表面的曲率半径为29.9469mm，前表面的通光口径为30.6670mm，后表面的通光口径为27.2434mm，厚度为4.5414mm;

所述第六弯月透镜L6与第五弯月透镜L5的间隔为0.8000mm,前表面的曲率半径为17.3196mm，后表面的曲率半径为18.6260mm，前表面的通光口径为24.2475mm，后表面的通光口径为19.8892mm，厚度为5.0740mm;

所述第七弯月透镜L7与第六弯月透镜L6的间隔为0.8000mm，前表面的曲率半径为12.5238mm，后表面的曲率半径为15.8638mm，前表面的通光口径为17.5333mm，后表面的通光口径为12.4326mm，厚度为5.3113mm。

4.如权利要求3所述的一种实验用浸没式投影光刻物镜，其特征在于，所述第八平凸透镜L8与第七弯月透镜L7的间隔为0.8000mm，前表面的曲率半径为6.3105mm，后表面为平面，前表面的通光口径为8.8347mm，后表面的通光口径为1.5792mm，厚度为4.9405mm；所述第八平凸透镜L8的前表面的非球面的系数如下：二次系数K为0.2777，四次系数A为-1.1020e-005，六次系数B为2.2428e-006，八次系数C为-3.0477e-008，十次系数D为4.8028e-009。