[发明专利]膜厚仪

权利要求书

1.一种用于测量晶圆上薄膜厚度的膜厚仪，所述膜厚仪包括产生测量光束的测量光束产生器、光学系统、处理装置及承载所述测量光束产生器、光学系统、处理装置的承载机架，所述光学系统将测量光束产生器产生的测量光束传导至晶圆上的薄膜，并将经晶圆上的薄膜反射的测量光束传导至处理装置，所述处理装置对光学系统传来的光束处理后计算出晶圆上薄膜的厚度，

所述承载机架上设有晶圆承载台，所述光学系统包括光束调整箱，所述光束调整箱设置于所述晶圆承载台的上方并与所述晶圆承载台之间形成空隙，

其特征在于，所述晶圆承载台的一侧设有气流产生器，所述气流产生器导引气体通过所述光束调整箱与所述晶圆承载台之间的空隙。

2.根据权利要求1所述的膜厚仪，其特征在于，所述气流产生器包括设置于所述晶圆承载台一侧的进气装置。

3.根据权利要求2所述的膜厚仪，其特征在于，所述晶圆承载台与所述进气装置相对的一侧设有将所述进气装置产生的通过所述空隙的气体导引出去的出气口。

4.根据权利要求3所述的膜厚仪，其特征在于，所述出气口为晶圆装载口。

5.根据权利要求3所述的膜厚仪，其特征在于，所述进气装置包括与所述光束调整箱与所述晶圆承载台之间的空隙相对的气体出口及用于通入气体的气体入口。

6.根据权利要求5所述的膜厚仪，其特征在于，所述气体入口与气体出口之间设有多个将气体均匀输送出气体出口的隔板。

7.根据权利要求5所述的膜厚仪，其特征在于，所述气体出口呈矩形。

8.根据权利要求7所述的膜厚仪，其特征在于，所述气体出口的高度与所述光束调整箱与所述晶圆承载台之间的距离相一致。

9.根据权利要求1~8中任一项权利要求所述的膜厚仪，其特征在于，所述气流产生器内所通过的气体为氮气或者惰性气体。