[发明专利]一种用于抑制癌细胞增殖的苯基修饰材料有效

专利信息
申请号: 201210152322.9 申请日: 2012-05-16
公开(公告)号: CN102727947A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 于晓龙;须苏菊;崔福斋 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: A61L31/12 分类号: A61L31/12;A61L31/16;C12Q1/02
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅
地址: 100084 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 抑制 癌细胞 增殖 苯基 修饰 材料
【权利要求书】:

1.一种制备苯基修饰材料的方法,包括下述步骤:

1)以含苯基的硫醇为溶质、无水乙醇为溶剂,制备质量浓度为0.8~1.5%的硫醇溶液,并于3~8℃静置4~24h;其中,所述含苯基的硫醇,其分子式为C6H6(CH2)nSH,n为正整数;

2)在单晶硅片表面生长钛过渡层,再在所述钛过渡层上生长金层,得到镀金硅片;

3)在避光条件下,将步骤2)所述镀金硅片放入步骤1)制备的硫醇溶液中,静置4~24h,即得所述苯基修饰材料。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤2)中所述单晶硅片的厚度为0.5~1mm;所述钛过渡层的厚度为8~12nm;所述金层的厚度为30~50nm。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:步骤2)中所述单晶硅片为单晶硅<100>;所述金层为金<111>。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于:步骤1)在制备硫醇溶液的过程中需要避光溶解;步骤2)中所述生长钛过渡层的方法以及生长金层的方法选自下述任意一种:等离子溅射法、磁控溅射法和分子束外延生长法。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其特征在于:步骤2)中所述单晶硅片在使用前还需进行下述清洁处理:将所述单晶硅片在浓硫酸和双氧水体积比为3∶1的混合液中清洗2次,再用三蒸水清洗3次,氮气环境下烘干;所述浓硫酸的质量浓度为98%,所述双氧水的质量浓度为50%。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法,其特征在于:所述方法还包括步骤3)前对步骤2)得到的镀金硅片进行下述处理的步骤:将所述镀金硅片在浓硫酸和双氧水体积比为3∶1的混合液中清洗2次,再用三蒸水清洗3次,氮气环境下烘干;所述浓硫酸的质量浓度为98%,所述双氧水的质量浓度为50%。

7.权利要求1-6中任一项所述方法制备得到的苯基修饰材料。

8.根据权利要求7所述的苯基修饰材料,其特征在于:所述苯基修饰材料与水的接触角为101°~105°;所述苯基修饰材料中的硫醇分子在金表面排列的间距为5~6nm。

9.权利要求7或8所述的苯基修饰材料在下述1)-5)中的应用:1)在制备抑制癌细胞的增殖和/或黏附和/或迁移的产品中的应用;2)在制备促进乳腺癌细胞内雌激素受体2基因表达的产品中的应用;3)在制备抑制乳腺癌细胞内迁移、增殖相关基因表达的产品中的应用;4)在制备抗癌产品中的应用;5)在预防和/或治疗癌症相关研究中的应用。

10.根据权利要求9所述的应用,其特征在于:所述癌细胞为乳腺癌细胞,所述癌为乳腺癌。

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