[发明专利]基板洗净方法和基板洗净装置

权利要求书

1.一种基板洗净方法，进行基板的洗净和干燥，其特征在于，具备：

一边大致水平地保持基板，一边使基板围绕垂直的轴旋转的工序；

使用喷出洗净液的洗净喷嘴，向旋转的基板上的中心部喷出洗净液的工序；

以接受从所述洗净喷嘴喷出的洗净液的基板上的位置从基板上的中心部朝向基板上的周缘移动固定距离的方式使所述洗净喷嘴移动的工序；

一边保持所述接受洗净液的基板上的位置从基板上的中心部离开固定距离的状态，一边使用喷出气体的气体喷嘴向基板上的中心部以规定时间喷出气体，由此在基板上的中心部形成干燥区域的工序；以及

在基板上的中心部形成了干燥区域之后，以所述接受洗净液的基板上的位置朝向基板上的周缘连续地移动的方式使所述洗净喷嘴移动，并且以所述接受从气体喷嘴喷出的气体的基板上的位置一边从所述接受洗净液的基板上的位置离开所述固定距离，一边沿着所述接受洗净液的基板上的位置的移动路径前进的方式使所述气体喷嘴连续地移动的工序。

2.根据权利要求1所述的基板洗净方法，其特征在于，使基板旋转的工序包含：以在所述接受洗净液的基板上的位置位于基板上的中心部的状态下，基板以第1旋转速度旋转，在所述接受洗净液的基板上的位置位于基板上的周缘的状态下，基板以比所述第1旋转速度低的第2旋转速度旋转的方式，使基板的旋转速度阶段地或连续地变化的工序。

3.根据权利要求1或2所述的基板洗净方法，其特征在于，所述规定距离是9mm以上15mm以下。

4.根据权利要求1或2所述的基板洗净方法，其特征在于，在所述喷出洗净液的工序中，在从基板周缘离开2mm～10mm的位置使所述洗净液的喷出停止，在停止后也维持所述基板的旋转。

5.一种基板洗净装置，进行基板的洗净和干燥，其特征在于，具备：

水平地保持基板的基板保持单元；

使通过所述基板保持单元保持的基板围绕与该基板垂直的轴旋转的旋转驱动单元；

向旋转的基板上喷出洗净液的洗净喷嘴；

使所述洗净喷嘴移动的洗净喷嘴驱动机构；

向旋转的基板上喷出气体的气体喷嘴；

使所述气体喷嘴移动的气体喷嘴驱动机构；以及

对所述基板保持单元、所述旋转驱动单元、所述洗净喷嘴驱动机构及所述气体喷嘴驱动机构进行控制的控制单元，

所述控制单元通过所述旋转驱动单元大致水平地保持基板并且使基板围绕与基板垂直的轴旋转，从所述洗净喷嘴向旋转的基板上的中心部喷出洗净液，以接受从所述洗净喷嘴喷出的洗净液的基板上的位置从基板上的中心部朝向基板上的周缘部移动固定距离的方式通过所述洗净喷嘴驱动机构使所述洗净喷嘴移动，一边保持所述接受洗净液的基板上的位置从基板上的中心部离开固定距离的状态，一边从所述气体喷嘴向基板上的中心部以固定时间喷出气体，由此在基板上的中心部形成干燥区域，在基板上的中心部形成了干燥区域之后，以所述接受洗净液的基板上的位置朝向基板上的周缘部连续地移动的方式通过所述气体喷嘴驱动机构使所述气体喷嘴移动，并且以所述接受从气体喷嘴喷出的气体的基板上的位置一边从所述接受洗净液的基板上的位置离开所述固定距离，一边沿着所述接受洗净液的基板上的位置的移动路径前进的方式通过所述气体喷嘴驱动机构使所述气体喷嘴连续地移动。

6.根据权利要求5所述的基板洗净装置，其特征在于，所述控制单元以在所述接受洗净液的基板上的位置位于基板上的中心部的状态下，基板以第1旋转速度旋转，在所述接受洗净液的基板上的位置位于基板上的周缘部的状态下，基板以比所述第1旋转速度低的第2旋转速度旋转的方式，通过所述旋转驱动单元使基板的旋转速度阶段地或连续地变化。

7.根据权利要求5或6所述的基板洗净装置，其特征在于，所述规定距离是9mm以上15mm以下。

8.根据权利要求5或6所述的基板洗净装置，其特征在于，所述控制单元使洗净喷嘴驱动机构移动到从基板周缘离开2mm～10mm的位置并使所述洗净液的喷出停止，在停止后也维持所述基板的旋转。