[发明专利]薄膜元件的制备方法及其共模滤波器的制备方法

权利要求书

1.一种薄膜元件的制备方法，包含下列步骤：

形成至少一第一导电图案于一基板上；

置放一干式聚亚酰胺膜于该第一导电图案上；

施加一力量于该干式聚亚酰胺膜，使得该干式聚亚酰胺膜填入该第一导电图案的空隙；以及

形成至少一第二导电图案于该干式聚亚酰胺膜上。

2.如权利要求1所述的薄膜元件的制备方法，其中该力量使用滚轮施加于该干式聚亚酰胺膜。

3.如权利要求1所述的薄膜元件的制备方法，其中该力量使用液压施加于该干式聚亚酰胺膜。

4.如权利要求1所述的薄膜元件的制备方法，其中该力量经由一弹性体施加于该干式聚亚酰胺膜。

5.如权利要求4所述的薄膜元件的制备方法，其中该弹性体包含橡胶。

6.如权利要求4所述的薄膜元件的制备方法，其中该弹性体包含膜片。

7.如权利要求1所述的薄膜元件的制备方法，其中该力量实质上是在一真空环境中施加于该干式聚亚酰胺膜。

8.如权利要求1所述的薄膜元件的制备方法，其中该力量是在一预定温度施加于该干式聚亚酰胺膜，该预定温度不低于该干式聚亚酰胺膜的玻璃转移温度。

9.如权利要求1所述的薄膜元件的制备方法，其在形成至少一第二导电图案之前，另包含图案化该干式聚亚酰胺膜的步骤。

10.如权利要求9所述的薄膜元件的制备方法，其在形成至少一第二导电图案之前，另包含固化该干式聚亚酰胺膜的步骤。

11.如权利要求10所述的薄膜元件的制备方法，其中固化该干式聚亚酰胺膜的步骤是一热处理工艺，其工艺温度介于160°C及370°C之间。

12.一种共模滤波器的制备方法，包含下列步骤：

形成至少一第一导电图案于一基板上；

置放一干式聚亚酰胺膜于该第一导电图案上；

施加一力量于该干式聚亚酰胺膜，使得该干式聚亚酰胺膜填入该第一导电图案的空隙；以及

形成至少一第二导电图案于该干式聚亚酰胺膜上。

13.如权利要求12所述的共模滤波器的制备方法，其中该力量使用滚轮施加于该干式聚亚酰胺膜。

14.如权利要求12所述的共模滤波器的制备方法，其中该力量使用液压施加于该干式聚亚酰胺膜。

15.如权利要求12所述的共模滤波器的制备方法，其中该力量经由一弹性体施加于该干式聚亚酰胺膜。

16.如权利要求15所述的共模滤波器的制备方法，其中该弹性体包含橡胶。

17.如权利要求15所述的共模滤波器的制备方法，其中该弹性体包含膜片。

18.如权利要求12所述的共模滤波器的制备方法，其中该力量实质上在一真空环境中施加于该干式聚亚酰胺膜。

19.如权利要求12所述的共模滤波器的制备方法，其中该力量在一预定温度施加于该干式聚亚酰胺膜，该预定温度不低于该干式聚亚酰胺膜的玻璃转移温度。

20.如权利要求12所述的共模滤波器的制备方法，其在形成至少一第二导电图案之前，另包含图案化该干式聚亚酰胺膜的步骤。

21.如权利要求20所述的共模滤波器的制备方法，其在形成至少一第二导电图案之前，另包含固化该干式聚亚酰胺膜的步骤。

22.如权利要求21所述的共模滤波器的制备方法，其中固化该干式聚亚酰胺膜的步骤是一热处理工艺，其工艺温度介于160°C及370°C之间。