[发明专利]滤波范围540～760nm的无掺杂层光子晶体光学滤波器及其制作方法

权利要求书

1.滤波范围540~760nm的无掺杂层光子晶体光学滤波器，其特征在于：滤波器包括光子晶体层（1）和镜头玻璃（2），光晶晶体层（1）设置在镜头玻璃（2）表面，光子晶体层（1）由10层D介质层和10层E介质层相互交替叠加构成（DE）₅（ED）₅型复合结构，所述的D为硫化锌，E为氟化镁,其中（DE）₅表示5层D介质和E介质交替叠加构成的复合介质层，其中D介质层的厚度为67.34nm，E介质层的厚度为114.674nm，该复合介质层设置在光子晶体层（1）的内侧，并与镜头玻璃连接；其中（ED）₅表示5层E介质和D介质交替叠加构成的复合介质层，其中D介质层的厚度为67.34nm，E介质层的厚度为114.674nm，该复合介质层设置在光子晶体层（1）外侧。

2.如权利要求1所述的滤波范围540~760nm的无掺杂层光子晶体光学滤波器，其特征在于：所述的D介质层的折射率分别是                                                ，E介质层的折射率为，D介质层的厚度为,E介质层的厚度为，中心波长取633nm。

3.如权利要求1所述的滤波范围540~760nm的无掺杂层光子晶体光学滤波器的制作方法，其特征在于：

步骤一、取一个镜头玻璃作为基板，将基板双面抛光，备用；

步骤二、将加工好的基板表面进行清洁化处理，采用酸性清洗液和去离子水分别清洗基板，然后将基板置于热板上烘干，温度65°，时间10分钟；

步骤三、将基板放入真空镀膜机中，在其一个表面上进行D介质的镀膜，硫化锌折射率，中心波长取633nm时，其镀膜厚度为，即67.34nm，镀膜后干燥冷却30分钟，然后在基板镀有D介质膜层的表面进行E介质的镀膜，氟化镁的折射率，中心波长取633nm时，其镀膜厚度为，即114.674nm，镀膜后干燥冷却30分钟；

步骤四、按照步骤三的方法交替进行D介质和E介质镀膜，直至镀好4层D介质膜层和4层E介质膜层，在基板上形成结构为（DE）₄的光子晶体复合镀膜层；

步骤五、在光子晶体结构已经镀膜为（DE）₄的基板结构上继续进行D介质硫化锌的镀膜，厚度为67.34nm，干燥冷却30分钟，在基板上形成结构为（DE）₄D的光子晶体复合镀膜层；

步骤六、在基板上光子晶体结构已经镀膜为（DE）₄D的结构上进行E介质氟化镁的镀膜，厚度为229.348nm，在基板上形成结构为（DE）₅E的光子晶体复合镀膜层；

步骤七、按照步骤三的方法交替进行D介质和E介质镀膜，直至镀好5层D介质膜层和4层E介质膜层，在基板上形成结构为（DE）₅（ED）₅的光子晶体复合镀膜层，制得表面设有（DE）₅（ED）₅光子晶体结构的滤波器。