[发明专利]用于光刻设备的对准信号处理装置及对准装置

权利要求书

1.一种用于光刻设备的对准信号处理装置，其特征在于，包括：

一对准信号转换模块，用于将所述对准信号转换为一待解调信号；

一相位差检验模块，用于采集一参考信号，并检测所述待解调信号与所述参考信号的相位

差；

一参考信号再生模块，根据所述相位差对所述参考信号进行延迟并生成一正弦参考信

号；

一解调模块，用于根据所述正弦参考信号对所述待解调信号进行解调。

2.如权利要求1所述的用于光刻设备的对准信号处理装置，其特征在于，所述对准信号转换

模块包括：

   一光电传感器，用于将所述对照信号转换为调制电流信号；

   一前置放大器，用于将所述调制电流信号转换为调制电压信号；

一可变增益放大器，用于将所述调制电压信号调整至设定幅值；

一带通滤波器，用于滤除所述调制电压信号中的直流成分和其它干扰成分。

3.如权利要求1所述的用于光刻设备的对准信号处理装置，其特征在于，所述相位差检验模块包括一参考信号采样器和一相位差检测器。

4.如权利要求1所述的用于光刻设备的对准信号处理装置，其特征在于，所述参考信号再生模块包括一延时控制器以及一正弦信号生成器。

5.一种用于光刻设备的对准装置，包括：

一激光光源模块，用于提供照明光束；

一光学模块，用于将所述照明光束标记上，形成一光学信号；

一信号采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得对准信号；

一处理模块，用于将所述对准信号转换为一待解调信号，并根据一参考信号对所述待解调信号进行处理；

其特征在于，所述处理模块检测所述待解调信号与所述参考信号的相位差，根据所述相

位差对所述参考信号进行延迟并生成一正弦参考信号，利用所述正弦参考信号对所述待解调信号进行解调。

6.如权利要求5所述的对准装置，其特征在于，所述处理模块包括：一对准信号转换模块，

用于将所述对准信号转换为一待解调信号；一相位差检验模块，用于采集一参考信号，并检测所述待解调信号与所述参考信号的相位差；一参考信号再生模块，根据所述相位差对所述参考信号进行延迟并生成一正弦参考信号；一解调模块，用于根据所述正弦参考信号对所述待解调信号进行解调。

7.如权利要求6所述的对准装置，其特征在于，所述对准信号转换模块包括：一光电传感器，

用于将所述对照信号转换为调制电流信号；一前置放大器，用于将所述调制电流信号转换为调制电压信号；一可变增益放大器，用于将所述调制电压信号调整至设定幅值；一带通滤波器，用于滤除所述调制电压信号中的直流成分和其它干扰成分。

8.如权利要求6所述的对准装置，其特征在于，所述相位差检验模块包括一参考信号采样器

和一相位差检测器。

9.如权利要求6所述的对准装置，其特征在于，所述参考信号再生模块包括一延时控制器以及一正弦信号生成器。