[发明专利]一种有源相控阵天线结构公差的快速确定方法

权利要求书

1.一种有源相控阵天线结构公差的快速确定方法，其特征是：至少包括如下步骤：

步骤1，确定天线阵面辐射单元信息；

步骤2，获取阵面辐射单元的高度误差；

步骤3，获取阵面辐射单元的位置安装误差；

步骤4，计算天线口面相位误差；

步骤5，计算天线远区电场分布；

步骤6，计算天线相关的电性能参数；

步骤7，依据战术技术指标要求，判断计算出当前结构公差条件下的天线电性能是否满足要求，若不满足要求，则进行步骤8和步骤9；若满足要求，则直接转到步骤10；

步骤8，修改阵面平面度；

步骤9，修改阵面安装精度，并重新进行步骤2至步骤7；

步骤10，当前的辐射单元的位置与高度公差就是所快速确定的天线结构公差。

2.根据权利要求1所述的一种有源相控阵天线结构公差的快速确定方法，其特征是：所述的步骤1中确定天线阵面辐射单元信息包括如下步骤：

1.1.获取天线长度L_x、宽度L_y、工作频率f与波长λ信息，获取阵面辐射单元的行数M、列数N和辐射单元在x、y方向上的间距d_x,d_y信息；阵面内辐射单元的编号为(i，j)；

1.2.将上述天线阵面辐射单元的信息按照行、列编号的顺序组成固定格式的数据文件。

3.根据权利要求1所述的一种有源相控阵天线结构公差的快速确定方法，其特征是：所述的步骤2获取阵面辐射单元的高度误差；

2.1.令阵面平面度分布着一个均值为0，标准差为σ_z的正态分布随机误差，选取初始辐射单元高度误差，即σ_z为1倍波长λ；

2.2.令第(i，j)个辐射单元的设计坐标为(i·d_x,j·d_y，0)，当阵面平面度z向存在随机误差Δz时，则辐射单元坐标变为：

(i·d_x,j·d_y,Δx_ij)    （1）。

4.根据权利要求1所述的一种有源相控阵天线结构公差的快速确定方法，其特征是：所述的步骤3获取阵面辐射单元的位置安装误差；

3.1.令阵面安装精度分布着一个均值为0，标准差为σ_x=σ_y的正态分布随机误差，选取初始辐射单元位置安装误差，即σ_x、σ_y为1倍波长λ；

3.2.当辐射单元(i，j)位置安装误差在x、y方向上存在随机误差Δx和Δy后，则辐射单元相应的0xy平面内坐标变为

(i·d_x+Δx_ij,j·d_y+Δy_ij)    （2）；

当辐射单元的位置误差量为(Δx_ij,Δy_ij,Δz_ij)，辐射单元的新坐标为：

(i·d_x+Δx_ij,j·d_y+Δy_ij,Δz_ij)    （3）。