[发明专利]光刻关键尺寸的量测标记无效
| 申请号： | 201210162852.1 | 申请日： | 2012-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN103424993A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 陈福成 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 刘昌荣 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 关键 尺寸 标记 | ||
【权利要求书】：
1.光刻关键尺寸的量测标记，其特征在于，包含至少一条线条图形和与该线条图形相连接的多个支撑图形。
2.根据权利要求1所述的量测标记，其特征在于，所述支撑图形的形状为三角形、矩形、梯形或者由其他几何图形组成的复杂图形。
3.根据权利要求1所述的量测标记，其特征在于，所述支撑图形的最大尺寸为所述线条图形的线宽的0.3～1.5倍。
4.根据权利要求1所述的量测标记，其特征在于，所述支撑图形与支撑图形之间在沿线条图形方向的距离为0.5～2微米。
5.根据权利要求1所述的量测标记，其特征在于，所述支撑图形环绕线条图形放置，或者放置在线条图形的一边。
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