[发明专利]光照系统及光照方法

权利要求书

1.一种光照系统，适于对一工件进行照射，其特征在于，包括：

一承载件，适于设置该工件；

至少一光源，设于该承载件之上，于一第一方向上产生一次光；以及

至少一光学元件，设于该工件的一侧，一次光经由该至少一光学元件而于一第二方向上提供二次光。

2.如权利要求1所述的光照系统，其特征在于，更包括一腔室，该承载件设置于该腔室的底部，该至少一光源设置于该腔室的顶部，该至少一光学元件设置于该腔室的侧边。

3.如权利要求1所述的光照系统，其特征在于，该第一方向为朝向该工件的正面方向。

4.如权利要求1所述的光照系统，其特征在于，该第二方向为朝向该工件的侧面方向。

5.如权利要求1所述的光照系统，其特征在于，该第二方向为朝向该工件的背面方向。

6.如权利要求1所述的光照系统，其特征在于，该承载件为一输送带装置。

7.如权利要求6所述的光照系统，其特征在于，该至少一光学元件设置于该输送带装置上。

8.如权利要求7所述的光照系统，其特征在于，该至少一光学元件的数量为二个以上，该些光学元件分别具有一折光面，该工件放置于该些光学元件之间，该折光面朝向该工件。

9.如权利要求8所述的光照系统，其特征在于，该些光学元件以二个为一组，同一组中的该些光学元件的该些折光面背对背设置，相异且相邻的组中的该些光学元件的该些折光面彼此间隔且面对面设置，该工件设置于相异且相邻的组中的该些光学元件之间。

10.如权利要求1所述的光照系统，其特征在于，该至少一光学元件具有一折光面，该折光面朝向该工件。

11.如权利要求10所述的光照系统，其特征在于，该折光面一平面。

12.如权利要求10所述的光照系统，其特征在于，该折光面朝向该工件凸起的一凸弧面。

13.如权利要求10所述的光照系统，其特征在于，该折光面朝向该工件凹陷的一凹弧面。

14.如权利要求10所述的光照系统，其特征在于，该折光面具有相连的多个平面。

15.如权利要求14所述的光照系统，其特征在于，该些平面彼此不平行。

16.如权利要求15所述的光照系统，其特征在于，该些平面朝向该工件弯折凸出。

17.如权利要求15所述的光照系统，其特征在于，该些平面朝向该工件弯折凹陷。

18.如权利要求10所述的光照系统，其特征在于，该至少一光学元件以一透光材质制成，该至少一光学元件还具有至少一背光面，该背光面背对该工件。

19.如权利要求18所述的光照系统，其特征在于，该至少一光学元件还具有一反光层，设置于该背光面。

20.如权利要求18所述的光照系统，其特征在于，该背光面还背对该光源。

21.如权利要求10所述的光照系统，其特征在于，该至少一光学元件以一反光材质制成。

22.如权利要求1所述的光照系统，其特征在于，一次光及二次光为紫外光或可使一光敏胶体固化的光线。

23.一种光照方法，适于对一工件进行照射，其特征在于，其步骤包括有：

提供至少一光源，该光源于一第一方向上产生一次光；以及

提供至少一光学元件，一次光经由该至少一光学元件而于一第二方向上提供二次光；

其中，一次光与二次光共同照射于该工件。

24.如权利要求23所述的光照方法，其特征在于，一次光为紫外光或可使一光敏胶体固化的光线。

25.如权利要求23所述的光照方法，其特征在于，二次光为反射光。

26.如权利要求23所述的光照方法，其特征在于，二次光为折射光。