[发明专利]一种基于激光干涉诱导反应的晶体硅制绒工艺

权利要求书

1.一种基于激光干涉诱导反应的晶体硅制绒工艺，其具体步骤是：

（1）腐蚀处理：硅片通过腐蚀去除表面的机械损伤；

（2）将硅片放入室温的一定浓度的碱性溶液中；

（3）通过激光局部加热浸泡在强碱溶液中的晶体硅片从而发生化学反应：选择合适的激光波长、脉冲频率、激光功率，将激光光束进行均匀化处理，通过分光镜或光栅形成干涉图样；

（4）形成绒面：用干涉激光扫描整个硅片，直到硅片表面形成均匀的绒面。

2.根据权利要求1所述的基于激光干涉诱导反应的晶体硅制绒工艺，其特征在于：上述步骤（2）中的强碱溶液为氢氧化钠或氢氧化钾溶液，溶液的温度保持在室温25℃或以下。

3.根据权利要求1所述的基于激光干涉诱导反应的晶体硅制绒工艺，其特征在于：上述步骤（2）中的激光光束经过扩束处理。

4.根据权利要求1所述的基于激光干涉诱导反应的晶体硅制绒工艺，其特征在于：上述步骤（3）中激光光束通过分光镜或光栅使激光在硅片上方发生干涉，干涉产生的条纹光斑的宽度小于15μm。

5.根据权利要求1所述的基于激光干涉诱导反应的晶体硅制绒工艺，其特征在于：上述步骤（4）中激光光束产生的条纹光斑将照射的硅片表面加热到50℃～100℃，以使加热区域同周边的强碱溶液发生反应，在该位置形成腐蚀坑。