[发明专利]雪崩光电二极管及雪崩光电二极管阵列无效
申请号: | 201210165691.1 | 申请日: | 2012-05-25 |
公开(公告)号: | CN102800715A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 笹畑圭史;中路雅晴 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/107;H01L25/03 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 何欣亭;王忠忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 雪崩 光电二极管 阵列 | ||
1.一种雪崩光电二极管,其特征在于,包括:
第一导电型的半导体衬底;
在所述半导体衬底的主表面上依次层叠的雪崩倍增层、电场缓冲层、光吸收层、及窗层;
设于所述窗层的一部分的第二导电型的杂质区域;以及
直线状电极,其配置在所述杂质区域上且与所述杂质区域连接,从与所述半导体衬底的所述主表面相向的平面上看该电极呈直线状。
2.根据权利要求1所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
所述直线状电极和所述杂质区域的外端的间隔为30μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
所述杂质区域俯视时为长方形或圆角长方形,
所述直线状电极沿着所述杂质区域的长边方向延伸。
4.根据权利要求1或2所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
所述杂质区域具有俯视时为长方形的长方形区域、和分别与所述长方形区域的2个短边接合的2个半圆状区域。
5.根据权利要求4所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
还包括半圆状电极,其配置在所述半圆状区域上,且与所述直线状电极接合。
6.根据权利要求1或2所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
还包括设在除所述杂质区域以外的所述窗层上的遮光金属。
7.根据权利要求1或2所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
所述直线状电极具有互相平行地配置的直线状的多个电极部。
8.根据权利要求7所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
相邻的所述直线状电极部的间隔为60μm以下。
9.根据权利要求7所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
所述直线状电极还包括与所述多个电极部正交且共同连接到这些电极部的电极部。
10.根据权利要求1或2所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
还包括配置在所述窗层的所述杂质区域以外的区域上的电极焊盘,
所述直线状电极和所述电极焊盘的连接部横跨所述杂质区域上的部位仅为1个部位。
11.根据权利要求1或2所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
所述直线状电极被分离为两部分。
12.根据权利要求11所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
还包括配置在所述窗层的所述杂质区域以外的区域上的2个电极焊盘,
被分离为两部分的所述直线状电极和所述2个电极焊盘各自的连接部横跨所述杂质区域上的部位仅为2个部位。
13.根据权利要求1或2所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
在与所述直线状电极的延伸方向垂直的方向上,所述直线状电极的宽度相对所述杂质区域的宽度的比例为20%以下。
14.根据权利要求1或2所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
所述直线状电极无角部。
15.根据权利要求1或2所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
所述直线状电极为透明电极。
16.根据权利要求1或2所述的雪崩光电二极管,其特征在于,
所述杂质区域的杂质浓度为1×1019cm-3以上。
17.一种雪崩光电二极管阵列,其特征在于,
权利要求1或2所述的雪崩光电二极管被排列成多个阵列状。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的