[发明专利]叠对标记组与定位两种布局图案的方法

权利要求书

1.一种叠对标记组，其特征在于，包含：

基材；

第一叠对标记，其代表一第一布局图案并位于所述基材上；以及

第二叠对标记，其代表一第二布局图案并位于所述基材上，其中所述

第一叠对标记直接接触所述第二叠对标记。

2.根据权利要求1所述的叠对标记组，其特征在于，另包含：

所述第一布局图案，其位于所述基材上;以及

所述第二布局图案，其位于所述基材上。

3.根据权利要求2所述的叠对标记组，其特征在于，所述第一布局图案与所述第二布局图案彼此交替排列。

4.根据权利要求1所述的叠对标记组，其特征在于，所述第一叠对标记代表一前程布局图案。

5.根据权利要求4所述的叠对标记组，其特征在于，所述第二叠对标记代表一当程布局图案。

6.根据权利要求1所述的叠对标记组，其特征在于，所述第二叠对标记高于所述第一叠对标记。

7.根据权利要求1所述的叠对标记组，其特征在于，所述第一叠对标记是一多边形。

8.根据权利要求1所述的叠对标记组，其特征在于，所述第一叠对标记是一椭圆形。

9.根据权利要求1所述的叠对标记组，其特征在于，所述第二叠对标记是一多边形。

10.根据权利要求1所述的叠对标记组，其特征在于，所述第二叠对标记是一椭圆形。

11.一种定位两种布局图案的方法，其特征在于，包含：

提供基材；

形成位于所述基材上的一第一布局图案与一第一叠对标记；

处理所述第一叠对标记；

形成位于所述基材上的一第二布局图案和一第二叠对标记，其中所述第二叠对标记直接接触所述第一叠对标记；以及

定位所述第二叠对标记。

12.根据权利要求11所述的定位两种布局图案的方法，其特征在于，形成位于所述基材上的所述第一布局图案与所述第一叠对标记的步骤更包括：

形成位于所述基材上的一第一材料层；以及

通过曝光与显影转移所述第一布局图案至所述第一材料层中。

13.根据权利要求11所述的定位两种布局图案的方法，其特征在于，处理所述第一叠对标记的步骤更包括：

硬烘烤所述第一叠对标记。

14.根据权利要求11所述的定位两种布局图案的方法，其特征在于，形成位于所述基材上的所述第二布局图案与所述第二叠对标记的步骤更包括：

形成位于所述基材上的一第二材料层，其中所述第二材料层覆盖所述第一布局图案；以及

通过曝光与显影转移所述第二布局图案至所述第二材料层中。

15.根据权利要求11所述的定位两种布局图案的方法，其特征在于，所述第一布局图案与所述第二布局图案彼此交替排列。

16.根据权利要求11所述的定位两种布局图案的方法，其特征在于，更包括定位所述第一叠对标记。

17.根据权利要求16所述的定位两种布局图案的方法，其特征在于，定位所述第一叠对标记的步骤包括以数码的方式记录所述第一叠对标记单独的一位置。

18.根据权利要求16所述的定位两种布局图案的方法，其特征在于，定位所述第一叠对标记的步骤包括撷取所述第一叠对标记单独的一影像。

19.根据权利要求17所述的定位两种布局图案的方法，其特征在于，定位所述第二叠对标记的步骤包括：

以数码的方式记录所述第一叠对标记与所述第二叠对标记一起的一位置；以及

将所述第一叠对标记与所述第二叠对标记一起的所述位置，与所述第一叠对标记单独的所述位置进行比较。

20.根据权利要求18所述的定位两种布局图案的方法，其特征在于，定位所述第二叠对标记的步骤包括：

撷取所述第一叠对标记与所述第二叠对标记一起的一影像；以及

将所述第一叠对标记与所述第二叠对标记一起的所述影像，与所述第一叠对标记单独的所述影像进行比较。

21.根据权利要求11所述的定位两种布局图案的方法，其特征在于，定位所述第二叠对标记的步骤包括：

一起光学侦测所述第一叠对标记和第二叠对标记而获得一光学数据；以及

解析所述光学数据，而分别定位所述第一叠对标记与所述第二叠对标记。