[发明专利]一种具有交叉光栅结构的发光二极管及其制备方法有效
申请号: | 201210169975.8 | 申请日: | 2012-05-29 |
公开(公告)号: | CN102709419A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 张雄;郭浩;韩乐;崔一平 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H01L33/10 | 分类号: | H01L33/10;H01L33/00 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 210096*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 交叉 光栅 结构 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于半导体照明的核心器件——发光二极管(LED)的制造技术领域,主要涉及具有交叉光栅的倒装LED结构及其制备方法,是一种能够应用于各种类型的衬底材料和发光波段、结构参数调节简便、可显著提高LED光提取效率的制造技术。
背景技术
目前LED仍存在成本高、发光效率低、可靠性差等问题,而且白光LED的发光功率还不高,这些问题均限制了LED在各个领域的应用。
LED的电光转换效率由内量子效率和光提取效率决定,现在的LED工艺已经可以将LED的内量子效率提高到一个很高的水平,而光提取效率则不然,还有很大的提升空间。所以现阶段,LED研究人员的努力方向之一就是提高LED的光提取效率。理论[1, 2]和实验[3~5]均证明,在LED的表面或内部制备光子晶体结构,可以应用光子晶体结构所特有的光子禁带效应显著地提高LED的光提取效率。但光子晶体结构的制备需要对LED的外延层或者衬底进行一定深度的刻蚀,易破坏LED器件的层状结构参数,增加电阻率,而且光子晶体的制造工艺较复杂,成本因此也较高。
本发明所提供的具有交叉光栅结构的LED,一方面光栅的制作工艺较光子晶体简单,刻蚀深度一般也较浅,不容易影响LED的电学性质;另一方面二组光栅的结构参数可以分别灵活地进行调节,而且仅需在键合时调整二组光栅的相互夹角,就可以获得具有0~90°之间任意交叉角度的交叉光栅结构的LED,实现将原本射向衬底(非出光面)的某种波段的光反射回LED,从而有效提高LED的出光效率。
参考文献
[1] Shanhui Fana, Pierre R. Villeneuvea, J D. Joflnopou1osa, d E. F. Schubert. Enhanced light extraction in III-nitride ultraviolet photonic crystal light-emitting diodes. Proc. SPIE 3002, 67 (1997).
[2] 张雄,王璨璨,陈洪钧,张沛元,崔一平. 一种光子晶体结构发光二极管. 中国专利, CN102361053A. 2012-02-22.
[3] J. Shakya, K. H. Kim, J. Y. Lin, and H. X. Jiang. Appl. Phys. Lett. 85, 142 (2004).
[4] Jonathan J. Wierer, Jr, Aurelien David and Mischa M. Megens. III-nitride photonic-crystal light-emitting diodes with high extraction ef?ciency. Nature Photonics 3, 163 - 169 (2009).
[5] J. J. Wierer, M. R. Krames, J. E. Epler, N. F. Gardner, et al. InGaN/GaN quantum-well heterostructure light-emitting diodes employing photonic crystal structures. Appl. Phys. Lett. 84, 3885 (2004)。
发明内容
技术问题:针对上述目前存在的问题和不足,本发明的目的主要是为了解决现有LED器件的光提取效率不高,以及二维光子晶体结构制造工艺复杂等问题。本发明提供了一种具有交叉光栅结构的发光二极管及其制备方法,显著地增加光提取效率的具有交叉光栅结构的LED及其制备方法。本发明提供的、构成交叉光栅结构的二组光栅的结构参数可以分别独立地自由调节,可应用于各种类型的衬底材料和发光波段。
技术方案:为解决上述技术问题,本发明提供了一种具有交叉光栅结构的发光二极管,该发光二极管包括衬底,生长在衬底上的具有第一光栅结构的介质薄膜层,与介质薄膜层键合在一起的具有第二光栅结构的p型GaN外延层,生长在p型GaN外延层上的InGaN多量子阱有源发光层和生长在InGaN多量子阱有源发光层上的n型GaN外延层,其中,第一光栅结构与第二光栅结构以0~90°之间的任一交叉角度键合在一起,构成交叉光栅结构。
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