[发明专利]一种具有交叉光栅结构的发光二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210169975.8 申请日: 2012-05-29
公开(公告)号: CN102709419A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 张雄;郭浩;韩乐;崔一平 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L33/10 分类号: H01L33/10;H01L33/00
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 210096*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 交叉 光栅 结构 发光二极管 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于半导体照明的核心器件——发光二极管(LED)的制造技术领域,主要涉及具有交叉光栅的倒装LED结构及其制备方法,是一种能够应用于各种类型的衬底材料和发光波段、结构参数调节简便、可显著提高LED光提取效率的制造技术。

背景技术

目前LED仍存在成本高、发光效率低、可靠性差等问题,而且白光LED的发光功率还不高,这些问题均限制了LED在各个领域的应用。

LED的电光转换效率由内量子效率和光提取效率决定,现在的LED工艺已经可以将LED的内量子效率提高到一个很高的水平,而光提取效率则不然,还有很大的提升空间。所以现阶段,LED研究人员的努力方向之一就是提高LED的光提取效率。理论[1, 2]和实验[3~5]均证明,在LED的表面或内部制备光子晶体结构,可以应用光子晶体结构所特有的光子禁带效应显著地提高LED的光提取效率。但光子晶体结构的制备需要对LED的外延层或者衬底进行一定深度的刻蚀,易破坏LED器件的层状结构参数,增加电阻率,而且光子晶体的制造工艺较复杂,成本因此也较高。

本发明所提供的具有交叉光栅结构的LED,一方面光栅的制作工艺较光子晶体简单,刻蚀深度一般也较浅,不容易影响LED的电学性质;另一方面二组光栅的结构参数可以分别灵活地进行调节,而且仅需在键合时调整二组光栅的相互夹角,就可以获得具有0~90°之间任意交叉角度的交叉光栅结构的LED,实现将原本射向衬底(非出光面)的某种波段的光反射回LED,从而有效提高LED的出光效率。

参考文献

[1] Shanhui Fana, Pierre R. Villeneuvea, J D. Joflnopou1osa, d E. F. Schubert. Enhanced light extraction in III-nitride ultraviolet photonic crystal light-emitting diodes. Proc. SPIE 3002, 67 (1997).

[2] 张雄,王璨璨,陈洪钧,张沛元,崔一平. 一种光子晶体结构发光二极管. 中国专利,  CN102361053A. 2012-02-22.

[3] J. Shakya, K. H. Kim, J. Y. Lin, and H. X. Jiang. Appl. Phys. Lett. 85, 142 (2004).

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[5] J. J. Wierer, M. R. Krames, J. E. Epler,  N. F. Gardner, et al. InGaN/GaN quantum-well heterostructure light-emitting diodes employing photonic crystal structures. Appl. Phys. Lett. 84, 3885 (2004)。

发明内容

技术问题:针对上述目前存在的问题和不足,本发明的目的主要是为了解决现有LED器件的光提取效率不高,以及二维光子晶体结构制造工艺复杂等问题。本发明提供了一种具有交叉光栅结构的发光二极管及其制备方法,显著地增加光提取效率的具有交叉光栅结构的LED及其制备方法。本发明提供的、构成交叉光栅结构的二组光栅的结构参数可以分别独立地自由调节,可应用于各种类型的衬底材料和发光波段。

技术方案:为解决上述技术问题,本发明提供了一种具有交叉光栅结构的发光二极管,该发光二极管包括衬底,生长在衬底上的具有第一光栅结构的介质薄膜层,与介质薄膜层键合在一起的具有第二光栅结构的p型GaN外延层,生长在p型GaN外延层上的InGaN多量子阱有源发光层和生长在InGaN多量子阱有源发光层上的n型GaN外延层,其中,第一光栅结构与第二光栅结构以0~90°之间的任一交叉角度键合在一起,构成交叉光栅结构。

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