[发明专利]凹面全息光栅制作中的曝光光路系统及调整回转中心的方法

权利要求书

1.一种凹面全息光栅制作中的曝光光路系统，包括：光源（1），第一全反镜（2），分束镜（3），第二全反镜（4），第三全反镜（5），第一空间滤波器（6），第二空间滤波器（7），凹面全息光栅基片（8），二维平移装置（12），第四全反镜；其特征在于：

A)凹面全息光栅制作中的曝光光路:

光源的光依次与第一全反镜（2），分束镜（3）；第二全反镜（4），第三全反镜（5）；第一空间滤波器（6）；第二空间滤波器（7）；凹面全息光栅基片（8）通过光连接；凹面全息光栅基片（8）放置于二维平移装置（12）上方的夹具（9）内；

B)所述的二维平移装置结构：

所述的二维平移装置（12）底部连接旋转台（13），二维平移装置上表面设置有二维移动滑道，二维平移装置的上方连接移动滑块，移动滑块底部的滑轨与滑道连接，移动滑块相邻侧端分别连接X方向移动旋钮10，Y方向移动旋钮11，移动滑块上方固接夹具（9），曝光光路系统的凹面全息光栅基片（8）置于夹具（9）内。

2.根据权利要求1所述的凹面全息光栅制作中曝光光路系统的调整回转中心的方法，其特征在于按照如下步骤进行：

步骤1）在旋转台（13）上凹面全息光栅基片放置处放置第四全反镜，通过第二全反镜（2），使得从光源（1）出射的光线正入射到旋转台（13）上的第四全反镜的中心，利用旋转台的旋转和二维平移装置（12）的X,Y方向的旋钮调节，分别使旋转台顺时针方向旋转180度和90度，再次使得第二全反镜（2）反射的光线正入射到旋转台上的第四全反镜的中心，此时第四全反镜的中心位置即为旋转台中心位置，将需要曝光的涂有光刻胶的凹面全息光栅基片置于第四全反镜的位置，即精确确定了凹面全息光栅基片（8）中心位于罗兰圆（14）上；

步骤2）、根据凹面全息光栅理论计算及优化的结果可以得出两束记录球面波与凹面全息光栅基片中心的距离，以及这两束球面波主光线与凹面全息光栅基片法线的夹角；通过改变球面波的位置可以改变像差的大小，进而达到消除光学系统中的像散和慧差的目的；根据计算结果，搭建凹面光栅的曝光光路装置，通过第一空间滤波器（6）和第二空间滤波器（7）使产生的球面波形成的干涉场对固定在夹具（9）上的涂覆光刻胶的凹面全息光栅基片进行曝光。