[发明专利]用于光配向工艺的曝光设备和制造液晶显示器的方法

权利要求书

1.一种曝光设备，用于光配向工艺，所述曝光设备包括：

第一光掩模，包括多个透射部分；及

第二光掩模，包括多个透射部分，

其中所述第一光掩模和所述第二光掩模彼此部分重叠，使得所述第一光掩模和所述第二光掩模的每个包括重叠区域和非重叠区域，

所述第一光掩模的所述重叠区域和所述第二光掩模的所述重叠区域的至少之一包括至少两个子区域，且

所述透射部分的形状或布置在所述至少两个子区域中彼此不同。

2.如权利要求1所述的曝光设备，其中

所述至少两个子区域包括至少一个第一子区域和至少一个第二子区域，

与所述第一光掩模的所述至少一个第一子区域中的所述透射部分对应的照射区域和与所述第二光掩模的所述至少一个第一子区域中的所述透射部分对应的照射区域彼此重叠，且

与所述第一光掩模的所述至少一个第二子区域中的所述透射部分对应的照射区域和与所述第二光掩模的所述至少一个第二子区域中的所述透射部分对应的照射区域彼此不重叠。

3.如权利要求2所述的曝光设备，其中

所述至少一个第一子区域和所述至少一个第二子区域交替布置。

4.如权利要求2所述的曝光设备，其中

所述第一光掩模的所述透射部分沿第一方向布置，且

所述第一光掩模或所述第二光掩模的所述至少一个第一子区域中的所述透射部分的沿垂直于所述第一方向的第二方向的长度沿所述第一方向逐渐改变。

5.如权利要求2所述的曝光设备，其中

所述第一光掩模的所述至少一个第二子区域中的所述透射部分和所述第二光掩模的所述至少一个第二子区域中的所述透射部分沿所述第一方向交替布置。

6.如权利要求1所述的曝光设备，还包括：

第一光源，向所述第一光掩模提供光；及

第二光源，向所述第二光掩模提供光。

7.如权利要求6所述的曝光设备，其中

所述第一光源和所述第二光源分别通过所述第一光掩模和所述第二光掩模倾斜地照射光。

8.一种曝光设备，用于光配向工艺，所述曝光设备包括：

第一光掩模，包括沿第一方向布置的多个透射部分；及

第二光掩模，包括沿所述第一方向布置的多个透射部分，

其中所述第一光掩模和所述第二光掩模彼此部分重叠，使得所述第一光掩模和所述第二光掩模的每个包括重叠区域和非重叠区域，

所述第一光掩模和所述第二光掩模的至少之一的透射部分关于所述第一方向非对称，且

在所述第一光掩模或所述第二光掩模的所述重叠区域中的所述透射部分的形状或布置与所述第一光掩模或所述第二光掩模的所述非重叠区域中的所述透射部分的形状或布置不同。

9.如权利要求8所述的曝光设备，其中

与所述第一光掩模的所述重叠区域中的所述透射部分的一部分对应的照射区域和与所述第二光掩模的所述重叠区域中的所述透射部分的一部分对应的照射区域不重叠。

10.如权利要求9所述的曝光设备，其中

所述第一光掩模的所述重叠区域中的一个透射部分和所述第二光掩模的所述重叠区域中的一个透射部分的组合形状与所述第一光掩模或所述第二光掩模的所述非重叠区域中的所述透射部分的形状相同。