[发明专利]一种硅铝合金/锆极紫外多层膜反射镜及其制备方法

权利要求书

1.一种极紫外多层膜反射镜，其特征在于：该反射镜包括基底和硅铝合金/锆周期多层膜，其中硅铝合金/锆周期多层膜是硅铝合金薄膜层和锆薄膜层交替沉积于基底表面上。

2.根据权利要求1所述的极紫外多层膜反射镜，其特征在于：所述的基底为光学玻璃。

3.根据权利要求1所述的极紫外多层膜反射镜，其特征在于：所述的基底粗糙度为：0nm<基底粗糙度<0.5nm。

4.根据权利要求1所述的极紫外多层膜反射镜，其特征在于：所述的硅铝合金/锆周期多层膜的周期数为35~45，总厚度为332.5~387.0纳米，其中：每个硅铝合金薄膜层厚度为5.8～6.4纳米，每个锆薄膜层厚度为2.8~3.1纳米。

5.根据权利要求1所述的极紫外多层膜反射镜，其特征在于：所述的硅铝合金中，99%的重量是铝、1%的重量是纯度99.5%的锆金属材料。

6.根据权利要求1所述的极紫外多层膜反射镜，其特征在于：所述的硅铝合金薄膜层和锆薄膜层交替沉积于基底表面上是指在基底表面上，第一层薄膜是硅铝合金薄膜层，第二层薄膜是锆薄膜层，第三层薄膜是硅铝合金薄膜层，第四层薄膜是锆薄膜层，如此往复，直至最后一层薄膜是锆薄膜层。

7.一种权利要求1-6中任一所述的极紫外多层膜反射镜的制备方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：首先对基底进行清洗，然后在基底上镀制硅铝合金/锆周期多层膜。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于：所述的对基底进行清洗包括以下步骤：

采用去离子水超声波清洗8-12分钟、有机清洗液超声波清洗8-12分钟，去离子水超声波清洗3-8分钟，MOS级丙酮超声波清洗8-12分钟，去离子水超声波清洗8-12分钟，MOS级乙醇超声波清洗8-12分钟，去离子水超声波清洗8-12分钟，干燥的纯净氮气吹干，其中所述的有机清洗液采用的是洗洁精，去离子水电阻率≤18MΩ。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于：所述的在基底上镀制硅铝合金/锆周期多层膜采用磁控溅射方法，所述的磁控溅射方法包括以下步骤：

（1）镀制多层膜前，溅射室的本底真空度低于8×10^-5帕斯卡；靶到基板的距离为8-12厘米；

（2）利用靶和基板之间的机械挡板来控制薄膜的厚度：先通过公转电机将基板运动到装有硅铝合金靶材料的溅射靶枪上方，移开挡板，开始镀膜，通过镀膜时间来控制膜层的厚度，当硅铝合金膜层镀完后，将挡板移回，然后将基板运动到装有锆靶材料的溅射靶枪上，其中，挡板移开到移回之间的时间间隔即为镀制一层薄膜的镀膜时间；当基板运动到装有锆靶材料的靶枪上方后，该靶枪的挡板移开，开始镀制锆膜层，通过镀膜时间来控制膜层的厚度，当锆膜层镀完后，将挡板移回，然后再将基板运动到装有硅铝合金靶材的溅射靶枪上方；如此反复以上过程30-45次，实现多层膜的制作；在膜层沉积过程中，基板保持自转，自转速度为40转/分钟。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于：所述的磁控溅射的溅射靶枪的工作模式为恒功率溅射，溅射工作气压为0.18帕斯卡；

或所述的每层硅铝薄膜层的镀膜时间的为47.4秒-52.3秒；所述的每层锆薄膜层的镀膜时间为52.6秒-58.2秒。