[发明专利]采用脉冲电磁场制备Al掺杂ZnO纳米片阵列的方法无效

专利信息
申请号: 201210172680.6 申请日: 2012-05-30
公开(公告)号: CN102693844A 公开(公告)日: 2012-09-26
发明(设计)人: 王建中;唐立丹;王冰;杜慧玲;齐锦刚 申请(专利权)人: 辽宁工业大学
主分类号: H01G9/20 分类号: H01G9/20
代理公司: 锦州辽西专利事务所 21225 代理人: 李辉
地址: 121001 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 采用 脉冲 电磁场 制备 al 掺杂 zno 纳米 阵列 方法
【权利要求书】:

1.一种采用脉冲电磁场技术制备Al掺杂ZnO纳米片阵列的方法,其特征是:

1.1、将FTO导电玻璃片放入温度为75~85℃的超声波清洗器中清洗4~6min后,取出用去离子水漂洗,在真空干燥箱中干燥4~6h;

1.2、用乙二醇甲醚作为溶剂将乙酸锌、乙醇胺配制混合溶液I,其中,乙酸锌与乙醇胺、乙二醇甲醚的体积比分别为1:1~1:1.5、1:7.5~1:8;

1.3、将配制的混合溶液I滴到导电玻璃片上并涂覆均匀进行镀膜,所述的混合溶液滴加量与导电玻璃片面积的关系为0.25~1ml/100mm2,将涂覆有混合溶液的FTO导电玻璃片置于管式加热炉中,加热到300~340℃,保温15~20min,冷却至室温;

1.4、重复第三步3~5次,在FTO导电玻璃片上即得到ZnO薄膜;

1.5、将硝酸铝、硝酸锌和六次甲基四胺加入去离子水中配制浓度为0.04~0.05mol/L的混合溶液II,其中,硝酸铝与硝酸锌、六次甲基四胺的摩尔比分别为1:32~1:99、1:33~1:100,将涂覆ZnO薄膜的FTO导电玻璃片放入反应釜内,将配制的混合溶液II注入反应釜中,注入量为反应釜容积的60%~70%;

1.6、用脉冲电磁场装置对反应釜中的反应体系施加脉冲电磁场处理,脉冲时间为1~3min,脉冲电压为600~700V,脉冲频率为6~9Hz,处理后将反应釜移入恒温箱进行水热合成反应,温度为95~100℃,时间为5~6h,降温至室温后取出FTO导电玻璃片,用去离子水冲洗掉玻璃表面的白色沉淀物,放入恒温干燥箱中80~90℃保温3-5h,即得Al掺杂ZnO纳米片阵列。

2.根据权利要求1所述的采用脉冲电磁场技术制备Al掺杂ZnO纳米片阵列的方法,其特征是:所述硝酸铝与硝酸锌、六次甲基四胺的摩尔比分别为1:32~1:49、1:33~1:50。

3.根据权利要求1所述的采用脉冲电磁场技术制备Al掺杂ZnO纳米片阵列的方法,其特征是:混合溶液II注入反应釜时,用玻璃棒引流。

4.根据权利要求1所述的采用脉冲电磁场技术制备Al掺杂ZnO纳米片阵列的方法,其特征是:所述反应釜内胆材料为聚四氟乙烯,外胆材料为不锈钢,电磁线圈缠绕在反应釜内胆上。

5.根据权利要求1所述的采用脉冲电磁场技术制备Al掺杂ZnO纳米片阵列的方法,其特征是:脉冲电磁场处理时,脉冲时间为2min,脉冲电压为650V,脉冲频率为7Hz。

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