[发明专利]磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板、磁记录介质和它们的制造方法

权利要求书

1.一种磁记录介质基板用玻璃，其为由氧化物玻璃形成的磁记录介质基板用玻璃，其特征在于，

以质量%表示，该玻璃含有

Si  20%～40%、

Al  0.1%～10%、

Li  0.1%～5%、

Na  0.1%～10%、

K   0～5%、

Sn  0.005%～0.6%、

Ce  0～1.2%，

其中，Li、Na和K的总含量为15%以下，

在该玻璃中，Sb含量为0～0.1%，不含有As和F。

2.如权利要求1所述的磁记录介质基板用玻璃，其特征在于，Ce含量相对于Sn含量之比Ce/Sn处于0～2.1的范围。

3.如权利要求1所述的磁记录介质基板用玻璃，其特征在于，Ce含量相对于Sn含量之比Ce/Sn处于0.02～1.3的范围。

4.如权利要求1～3的任一项所述的磁记录介质基板用玻璃，其特征在于，所述玻璃为不含有Sb的玻璃。

5.如权利要求1～4的任一项所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，

以质量%表示，该玻璃含有

Mg  0～5%、

Ca  0～5%、

Sr  0～2%、

Ba  0～2%。

6.如权利要求1～5的任一项所述的磁记录介质基板用玻璃，其特征在于，所述玻璃含有总共为0.1质量%～10质量%的Zr、Ti、La、Nb、Ta和Hf。

7.如权利要求1～6的任一项所述的磁记录介质基板用玻璃，其特征在于，Mg、Ca、Sr和Ba的总含量为0～10%。

8.如权利要求1～7的任一项所述的磁记录介质基板用玻璃，其特征在于，Si和Al的总含量为30质量%以上，该玻璃具有1400℃时的粘度为10³dPa·s以下的粘性特性。

9.如权利要求1～8的任一项所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，

以质量%表示，该玻璃含有

Si  28%～34%、

Al  6%～10%、

Li  0.1%～3%、

Na  5%～10%、

K   0.1%～1%、

Mg  0.1%～2%、

Ca  0.1%～2%、

Sr和Ba总共0～1%、

Zr  1%～5%、

B   0～1%、

Zn  0～1%，

其中，Si和Al的总含量为37%以上，Li、Na和K的总含量为7%～13%。

10.如权利要求1～8的任一项所述的磁记录介质基板用玻璃，其中，

以质量%表示，该玻璃含有

Si  28%～34%、

Al  6%～10%、

Li  1%～5%、

Na  1%～10%、

K   0.1%～3%、

Mg  0～2%、

Ca  0～2%、

Sr  0～1%、

Ba  0～1%、

Zr、Ti、La、Nb、Ta和Hf总共1%～10%、

B  0～1%、

Zn 0～1%、

P  0～1%，

其中，Si和Al的总含量为37%以上，Li、Na和K的总含量为5%～11%。

11.一种磁记录介质基板用玻璃的制造方法，其为由氧化物玻璃形成的磁记录介质基板用玻璃的制造方法，其特征在于，

添加Sn，且可选的添加Ce，调配玻璃原料，将该玻璃原料熔融，并使所得到的熔融玻璃澄清后，进行成型，以得到如下玻璃：

以质量%表示，该玻璃含有

Si  20%～40%、

Al  0.1%～10%、

Li  0.1%～5%、

Na  0.1%～10%、

K   0～5%、

Sn  0.005%～0.6%、

Ce  0～1.2%，

其中，Li、Na和K的总含量为15%以下，

在该玻璃中，Sb含量为0～0.1%，不含有As和F。