[发明专利]一种基于栅控漏极产生电流提取MOSFET平带电压和阈值电压的方法有效
申请号: | 201210179347.8 | 申请日: | 2012-06-01 |
公开(公告)号: | CN102692543A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 陈海峰;过立新 | 申请(专利权)人: | 西安邮电大学 |
主分类号: | G01R19/00 | 分类号: | G01R19/00;G01R31/26 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 710075 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 栅控漏极 产生 电流 提取 mosfet 电压 阈值 方法 | ||
1.一种基于栅控漏极产生电流提取MOSFET平带电压和阈值电压的方法,其特征在于基于栅控产生电流获取MOSFET平带电压VTB的方法步骤为:1)悬空MOSFET源端电极,漏电电极上施加一小漏电压VD,且|VD|<=0.2V;2)扫描栅电压VG,使沟道从积累区到反型区变化,测量漏极电流即得到栅控漏极产生电流IGD;3)对得到的栅控产生电流曲线IGD进行二次偏导运算得到二次导数和栅电压VG的关系曲线,其二次导数曲线会形成对应于IGD-VG曲线的上升沿的峰值点Pu;4)从Pu点做垂线交于栅电压轴得到一个电压,此电压即为平带电压VFB。
2.根据权利要求1所述的基于栅控漏极产生电流提取MOSFET平带电压和阈值电压的方法,其特征在于基于栅控产生电流获取MOSFET阈值电压VTH的方法步骤为:1)悬空MOSFET源端电极,漏电电极上施加一小漏电压VD,且|VD|<=0.2V;2)扫描栅电压VG,使沟道从积累区到反型区变化,测量漏极电流即得到栅控漏极产生电流IGD;3)对得到的栅控产生电流曲线IGD进行二次偏导运算得到二次导数和栅电压VG的关系曲线,其二次导数曲线会形成对应于IGD-VG曲线的下降沿峰值点Pd;4)从Pd点做垂线交于栅电压轴得到一个电压,此电压即为阈值电压VTH。
3.根据权利要求1所述的基于栅控漏极产生电流提取MOSFET平带电压和阈值电压的方法,所述的MOSFET为N型,VD>0V,且VD<=0.2V。
4.根据权利要求1所述的基于栅控漏极产生电流提取MOSFET平带电压和阈值电压的方法,所述的MOSFET为P型,VD<0V,且VD>=-0.2V。
5.根据权利要求1所述的基于栅控漏极产生电流提取MOSFET平带电压和阈值电压的方法,所述的扫描栅电压VG使得沟道从积累区、耗尽区到反型区变化。
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