[发明专利]一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置有效
申请号: | 201210180785.6 | 申请日: | 2012-06-04 |
公开(公告)号: | CN102664157A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 王永彬;王毅 | 申请(专利权)人: | 扬州扬杰电子科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B08B3/02 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 225008 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二极管 酸处理 震荡 冲洗 装置 | ||
1.一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,所述二极管酸处理后设置在酸洗盘上,其特征在于,所述震荡冲洗装置包括底座、冲洗头、水槽和震荡装置,所述酸洗盘设在所述水槽上,所述冲洗头设在所述酸洗盘上方;
所述震荡装置设在所述水槽的一侧,所述震荡装置包括振子、支架和弹簧,所述振子设在所述支架上部中间位置;
所述支架具有支撑板和立板,相互间构成L形;所述支撑板水平地设在所述水槽的内侧、且高于所述水槽顶缘高度;所述酸洗盘的外侧搁置在所述水槽的外侧顶缘、内侧搁置在所述支撑板朝向所述水槽的顶缘上,使得所述酸洗盘倾斜设在所述水槽和支撑板之间;
所述弹簧活动设在所述支撑板的下部。
2.根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,还包括限位机构,所述限位机构包括导向螺栓组件和一对限位板;所述导向螺栓组件穿过所述弹簧、连接所述支撑板;所述限位板具有水平的顶板,所述一对限位板设在所述支撑板的两侧、其顶板的底面贴合所述支撑板的顶面。
3. 根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,所述支撑板朝向所述水槽的顶缘设有凸边,所述凸边为梯形,使得所述酸洗盘倾斜设置在所述凸边上。
4. 根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,所述震荡装置的立板铰接在底座上。
5. 根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,还包括限位槽,所述立板的底部设在所述限位槽内,用于限制所述支架前后移动。
6. 根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,在所述酸洗盘的两侧设有凹槽或凸筋。
7. 根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,所述振子的震荡频率为5-15次/秒,振幅为0.1-0.5mm。
8. 根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,所述酸洗盘的倾斜角度为5~30°。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州扬杰电子科技股份有限公司,未经扬州扬杰电子科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210180785.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造