[发明专利]用于光刻设备的工件台位置误差补偿方法有效
申请号: | 201210181489.8 | 申请日: | 2012-06-05 |
公开(公告)号: | CN103454862A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 林彬;李煜芝;毛方林 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 光刻 设备 工件 位置 误差 补偿 方法 | ||
1. 一种用于光刻设备的工件台位置误差补偿方法,其特征在于,包括:
步骤一、设置旋转台的旋转角度为零,并与水平向运动台保持固定的位置关系,水平向运动台沿着运动轨道运动,在硅片上套刻曝光,读取曝光标记偏差,计算各曝光场的旋转角度;
步骤二、根据所述各曝光场的旋转角度,拟合由所述运动轨道扭转引入的旋转角度;
步骤三、使所述工件台先后沿第一方向和与第一方向垂直的第二方向运动,测量工件台的旋转角度;
步骤四、根据所述工件台的旋转角度,拟合获得由缩放效应引入的旋转角度;
步骤五、根据所述工件台的旋转角度、所述运动轨道扭转引入的旋转角度与缩放效应引起的旋转角度,计算方镜面形引起的旋转角度,从而对工件台位置误差进行补偿。
2.如权利要求1所述的工件台位置误差补偿方法,其特征在于,所述步骤二中根据所述曝光场的旋转角度,拟合因所述运动轨道扭转引入的旋转角度的具体计算公式为: ,
其中,Rzxrm、Rzyrm为所述运动轨道扭转引入的的旋转角度,ar、br、cr、dr为拟合系数。
3.如权利要求1所述的工件台位置误差补偿方法,其特征在于,所述步骤四中所述缩放效应引入的旋转角度的具体计算公式为:
,,
其中,Rzxscale、Rzyscale为由缩放效应引入的旋转角度,as、bs、cs、ds为拟合系数。
4.如权利要求1所述的工件台位置误差补偿方法,其特征在于,所述计算方镜面形引起的旋转角度的具体计算公式为:
,
其中,Rzxmeas、Rzymeas为由所述工件台的旋转角度,Rzxrm、Rzyrm为所述运动轨道扭转引入的的旋转角度,Rzxmm、Rzymm为方镜面形引入的旋转角度,Rzxscale、Rzyscale为由缩放效应引入的旋转角度。
5.如权利要求1所述的工件台位置误差补偿方法,其特征在于,还包括步骤六:重复执行步骤一至五,直至测量结果收敛。
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