[发明专利]一种高温超导涂层导体Gd1-xCaxBiO3缓冲层及其制备方法

权利要求书

1.一种高温超导涂层导体Gd_1-xCa_xBiO₃缓冲层，其特征在于，为对高温超导涂层导体GdBiO₃缓冲层进行Gd的Ca的替代进而外延成相热处理生成氧化物Gd_1-xCa_xBiO₃固溶体，其中0.1≤x≤0.4。

2.一种高温超导涂层导体Gd_1-xCa_xBiO₃缓冲层的制备方法，其特征在于：制备方法包括以下步骤：

a、胶体制备：将前驱物Gd，Ca，Bi的硝酸盐按金属阳离子比Gd:Ca：Bi=1-x:x:1的比例溶于适量的聚丙烯酸中，其中0.1≤x≤0.4，最终溶液总的摩尔浓度为0.2mol/L；

b、胶体涂敷与干燥及热分解处理：将a步制得的胶体涂覆在基片上，再进行干燥；干燥后，进行烧结前在空气中的热分解处理，即将涂敷有胶体的基片置于烧结炉中，使炉温从室温缓慢升至180℃ -230℃，并以0.1-2℃/min的速度升至在300℃-340℃，再以0.1-1℃/min的速度升至540℃-560℃，保温0.5小时，以使得烧结形成的涂层更平整，更致密；

c、烧结成相：将涂覆有胶体的基片干燥后，再放入烧结炉中烧结成相，最终得到Gd_1-xCa_xBiO₃缓冲层；具体作法为：在空气中将炉温快速以10-100℃/min的速度升至800℃ -820℃，保温40-60分钟；再让炉温缓慢降至室温。

3.根据权利要求2所述的高温超导涂层导体Gd_1-xCa_xBiO₃缓冲层的制备方法，其特征在于：所述b步中, 胶体涂覆在基片上的具体作法为：将胶体滴在基片上，用匀胶机旋转，使胶体均匀涂敷在基片上。

4.根据权利要求2所述的高温超导涂层导体Gd_1-xCa_xBiO₃缓冲层的制备方法，其特征在于：所述b步中干燥时的温度为100℃-150℃。

5.根据权利要求2所述的高温超导涂层导体Gd_1-xCa_xBiO₃缓冲层的制备方法，其特征是：上述b步的干燥后、c步的烧结成相前，还进行烧结前在空气中的热分解处理，即将涂敷有胶体的基片置于烧结炉中，使炉温从室温缓慢升至180℃ -230℃，并以0.1-2℃/min的速度升至在300℃-340℃，再以0.1-1℃/min的速度升至540℃-560℃，保温0.5小时，经过这样的烧结前的预分解处理，可使得烧结形成的涂层更平整，更致密。